[发明专利]有机电致发光器件及其制备方法

说明书

技术领域

本发明涉及光电子器件领域，尤其涉及一种有机电致发光器件。本发明还涉及该有机电致发光器件的制备方法。

背景技术

有机电致发光器件（OLED）是基于有机材料的一种电流型半导体发光器件。其典型结构是在ITO玻璃上以有机发光材料制作一层几十纳米厚的发光层，发光层上方设有一层低功函数的金属电极。当电极上加有电压时，发光层就产生光辐射。

OLED器件具有主动发光、发光效率高、功耗低、且轻、薄、无视角限制等优点，被业内人士认为是最有可能在未来的照明和显示器件市场上占据霸主地位的新一代器件。作为一项崭新的照明和显示技术，OLED技术在过去的十多年里发展迅猛，取得了巨大的成就。由于全球越来越多的照明和显示厂家纷纷投入研发，大大的推动了OLED的产业化进程，使得OLED产业的成长速度惊人，目前已经到达了大规模量产的前夜。

在传统的发光器件中，器件内部的光只有18%左右是可以发射到外部去的，而其他的部分会以其他形式消耗在器·件外部，界面之间存在折射率的差（如玻璃与ITO之间的折射率之差，玻璃折射率为1.5，ITO为1.8，光从ITO到达玻璃，就会发生全反射），引起了全反射的损失，从而导致整体出光性能较低。

发明内容

本发明的目的在于解决上述现有技术存在的问题和不足，提供一种有机电致发光器件及其制备方法，通过制备阴极复合层，来提高有机电致发光器件的出光效率。

本发明针对上述技术问题而提出的技术方案为：一种有机电致发光器件，该有机电致发光器件为层状结构，该层状结构依次层叠为：阳极导电基底、空穴注入层、空穴传输层、发光层、电子传输层、电子注入层以及阴极复合层，所述阴极复合层由依次层叠的低功函数金属层、三元掺杂层和阳极薄膜材料层组成；其中，

所述低功函数金属层的金属功函数为-2.0eV～-3.5eV，所述低功函数金属功函数的材质为镁、锶、钙或镱；

所述三元掺杂层由质量比为2:1:1～5:3:1的双极性金属氧化物、钝化材料以及锌化合物组成，所述双极性金属氧化物的材质为三氧化钼、三氧化钨或五氧化二钒；所述钝化材料的材质为二氧化硅、氧化铝、氧化镍或氧化铜；所述锌化合物的材质为为氧化锌、硫化锌、硒化锌或氯化锌；

所述阳极薄膜层的材质为铟锡氧化物靶材、铝锌氧化物靶材或铟锌氧化物靶材。

进一步地，所述低功函数金属层的厚度为5nm～20nm。

进一步地，所述三元掺杂层的厚度为100nm～300nm。

进一步地，所述阳极薄膜层的厚度为100nm～400nm。

进一步地，所述导电阳极基底的材质为铟锡氧化物玻璃、铝锌氧化物玻璃或铟锌氧化物玻璃；

所述空穴注入层的材质为三氧化钼、三氧化钨或五氧化二钒；

所述空穴传输层的材质为1，1-二[4-[N，N′-二(p-甲苯基)氨基]苯基]环己烷、4,4',4''-三(咔唑-9-基)三苯胺或N，N’-（1-萘基）- N，N’-二苯基-4,4’-联苯二胺；

所述发光层的材质为4-（二腈甲基）-2-丁基-6-（1,1,7,7-四甲基久洛呢啶-9-乙烯基）-4H-吡喃、9,10-二-β-亚萘基蒽、4,4'-双(9-乙基-3-咔唑乙烯基)-1,1'-联苯或8-羟基喹啉铝；

所述电子传输层的材质为4,7-二苯基-1,10-菲罗啉、1,2,4-三唑衍生物或N-芳基苯并咪唑；

所述电子注入层的材质为碳酸铯、氟化铯、叠氮铯或者氟化锂。

本发明还涉及上述有机电致发光器件的制备方法，包括如下步骤：

(a) 在清洗干净的阳极导电基底的阳极导电层上，采用蒸镀的方法依次层叠制备空穴注入层、空穴传输层、发光层、电子传输层和电子注入层；

(b) 首先，采用蒸镀的方法在电子注入层上制备低功函数金属层；接着，在所述低功函数金属层上采用电子束蒸镀制备三元掺杂层；随后，在所述三元掺杂层上采用磁控溅射的方法制备阳极薄膜层；其中，

所述低功函数金属层的金属功函数为-2.0eV～-3.5eV，所述低功函数金属功函数的材质为镁、锶、钙或镱；

所述三元掺杂层由质量比为2:1:1～5:3:1的双极性金属氧化物、钝化材料以及锌化合物组成，所述双极性金属氧化物的材质为三氧化钼、三氧化钨或五氧化二钒；所述钝化材料的材质为二氧化硅、氧化铝、氧化镍或氧化铜；所述锌化合物的材质为为氧化锌、硫化锌、硒化锌或氯化锌；

所述阳极薄膜层的材质为铟锡氧化物靶材、铝锌氧化物靶材或铟锌氧化物靶材。