[发明专利]硅片甩干装置

说明书

技术领域

本发明涉及晶体硅制备装置技术领域，具体涉及一种对硅片进行甩干的硅片甩干装置。

背景技术

在硅片生产过程中，需要对硅片进行清洗并甩干，现有的甩干设备多为进口设备，其价格高、结构复杂。

发明内容

针对上述技术问题，本发明提供一种结构简单、使用方便的硅片甩干装置。

实现本发明的技术方案如下：

硅片甩干装置，包括上端开口、下端密封的壳体，壳体内设置有旋转桶，以及驱动旋转桶旋转的驱动机构，所述旋转桶上具有容放硅片的容置腔，旋转桶上开有出水孔，出水孔与容置腔连通，所述容置腔内周壁还设有对硅片进行限位的限位柱。

将需要甩干的硅片放置在容置腔中，并由限位柱对硅片进行限位，保证在甩干过程中，硅片不会碰到容置腔内壁，从而起到保护硅片的作用。

所述壳体内横向设有分隔板，所述风隔板将壳体分为放置旋转桶的甩干上腔、放置驱动机构的驱动下腔，驱动机构的输出端穿过分隔板伸入甩干腔内。

所述分隔板的上端面为锥形面。另外在壳体的侧壁设有排水口，排水口位于分隔板的上方，这样在由旋转桶上出水孔排出的水，就会很快的从排水口中排出。

所述驱动机构伸入甩干上腔的输出端设置有旋转盘，所述旋转桶固定设置在旋转盘上。

所述限位柱设有四根，其均匀的分布在容置腔内。

所述驱动机构为驱动电机。

采用了上述方案，在使用本发明时，将需要甩干的硅片放置在容置腔内，由容置腔内中的四根限位柱对硅片进行限位保护，在启动驱动电机带动旋转盘进行转动，同时带动固定在旋转盘上的旋转桶旋转，从而对硅片进行甩干，容置腔内的硅片甩出的水由出水孔排出，硅片甩干后直接取出即可。本发明结构简单、使用方便，适于推广应用。

附图说明

图1为本发明的结构示意图；

图中，1为壳体，2为旋转桶，3为驱动电机，4为分隔板，5为甩干上腔，6为驱动下腔，7为密封件，8为旋转盘，9为容置腔，10为出水孔，11为限位柱，12为排水口。

具体实施方式

下面结合附图和具体实施例对本发明进一步说明。

参见图1，硅片甩干装置，包括上端开口、下端密封的壳体1，壳体1内设置有旋转桶2，以及驱动旋转桶旋转的驱动电机3，壳体1内横向设有上端面为锥形面的分隔板4，风隔板4将壳体分为放置旋转桶的甩干上腔5、放置驱动电机的驱动下腔6，驱动电机3的输出端穿过分隔板伸入甩干腔内，在驱动电机的输出轴与分隔板之间设有密封件7。驱动电机伸入甩干上腔的输出端设置有旋转盘8，旋转桶2固定设置在旋转盘8上。旋转桶2上具有容放硅片的容置腔9，旋转桶上开有出水孔10，出水孔10与容置腔9连通，容置腔内周壁还设有对硅片进行限位的限位柱11。限位柱设有四根，其均匀的分布在容置腔内。另外在壳体的侧壁设有排水口12，排水口12位于分隔板4的上方，这样在由旋转桶上出水孔排出的水，就会很快的从排水口中排出。