[发明专利]一种两步相移干涉相位显微一次成像系统及方法有效

专利信息
申请号: 201310270860.2 申请日: 2013-07-01
公开(公告)号: CN103336419A 公开(公告)日: 2013-10-02
发明(设计)人: 徐媛媛;季颖;王亚伟 申请(专利权)人: 江苏大学
主分类号: G03H1/04 分类号: G03H1/04;G02B21/06;G02B21/00
代理公司: 南京正联知识产权代理有限公司 32243 代理人: 卢霞
地址: 212013 *** 国省代码: 江苏;32
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摘要:
搜索关键词: 一种 相移 干涉 相位 显微 一次 成像 系统 方法
【权利要求书】:

1.一种两步相移干涉相位显微一次成像系统,采用马赫-曾德尔干涉光路,其特征在于包括用于分光的第一侧向位移分光镜(9)和第二侧向位移分光镜(11)、用于旋转的第二反射镜(10)、用于改变参考光位相的波片(12)以及置于干涉系统后用于放大的显微镜(14);沿着激光器(1)的输出方向依次连接由第一透镜(2)、针孔空间滤波器(3)、第二透镜(4)组成的透镜扩束准直系统以及第一分光镜(5),所述的第一分光镜(5)将激光分为物光与参考光,沿物光方向依次放置有第一反射镜 (6)、载物台(7)、样品(8)、第一侧向位移分光镜(9);沿参考光方向依次放置有第二反射镜(10)、第二侧向位移分光镜(11);经所述第二侧向位移分光镜(11)得到的偏离原参考光束通道的参考光经过波片(12);经所述第一位移分光镜(9)得到的两物光与经所述第二侧向位移分光镜(11)和波片(12)得到的两参考光通过第二分光镜 (13),并经置于其后的的显微镜(14)放大,在CCD(15)上形成两相移干涉图,并存储在计算机(16)上。

2.一种如权利要求1所述的两步相移干涉相位显微一次成像系统,其特征在于所述第一侧向位移分光镜(9)与第二侧向位移分光镜(11)结构相同,内两胶层分别镀半透半反膜和全反射膜,且与底面交角45°,保证一光束被分成两严格平行的光束,并沿原来光束的方向进行传输;两侧向位移分光镜其内两胶层面的距离相等,保证两干涉图样仅发生由波片(12)产生的相移。

3.一种利用如权利要求1所述的两步相移干涉相位显微一次成像系统进行成像的方法,其特征在于包括以下步骤:

第一步,激光束经第一分光镜(5)分成透射光束和反射光束两束光;所述的透射光束透过样品(8)作为样品光,并通过第一侧向位移分光镜(9)分成与原样品光束传输方向相同的两平行光束OO

第二步,所述的反射光束经过第二反射镜(10)与第二侧向位移分光镜(11)将参考光分为与原参考光束传输方向相同的两独立平行光束RR,这两光束的间距与样品光束OO的间距相同;

第三步,在R的参考臂上增加一波片,改变参考光的相位;

第四步,样品光束OO与参考光束RR对应相遇形成双通道干涉系统,仅需单次曝光,可在CCD 上采集到仅有波片(12)引起的两幅相移干涉图样;然后由相应的相位恢复运算可实现定量相位成像。

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