[发明专利]高压功率器件用极厚外延片及其制造方法有效
申请号: | 201310240216.0 | 申请日: | 2013-06-17 |
公开(公告)号: | CN103354242A | 公开(公告)日: | 2013-10-16 |
发明(设计)人: | 王浩;邹崇生 | 申请(专利权)人: | 上海晶盟硅材料有限公司 |
主分类号: | H01L29/06 | 分类号: | H01L29/06;H01L21/02;H01L21/20 |
代理公司: | 上海脱颖律师事务所 31259 | 代理人: | 李强 |
地址: | 201707 上海市*** | 国省代码: | 上海;31 |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | |||
搜索关键词: | 高压 功率 器件 用极厚 外延 及其 制造 方法 | ||
1.高压功率器件用极厚外延片,包括衬底和外延层,其特征在于,所述衬底为6寸以上,所述外延层厚度为100μm以上。
2.根据权利要求1所述的高压功率器件用极厚外延片,其特征在于,所述衬底为6寸或8寸。
3.根据权利要求1所述的高压功率器件用极厚外延片,其特征在于,所述外延层厚度为100μm-199μm。
4.根据权利要求1所述的高压功率器件用极厚外延片,其特征在于,所述外延层的厚度非均匀性小于等于5%。
5.根据权利要求1所述的高压功率器件用极厚外延片,其特征在于,所述外延层的电阻非均匀性小于等于5%。
6.根据权利要求1所述的高压功率器件用极厚外延片,其特征在于,所述衬底为N型衬底;,所述N型衬底掺杂砷、磷及锑中的至少一种元素。
7.根据权利要求1所述的高压功率器件用极厚外延片,其特征在于,所述衬底为P型衬底;所述P型衬底掺杂有硼元素。
8.权利要求1-7任一权利要求所述的高压功率器件用极厚外延片的制造方法,其特征在于,包括步骤:分两步将衬底自室温升高至长晶温度,然后在衬底表面生长外延层;
第一步,以80℃-120℃/min的速度自室温升至950℃-1000℃;
第二步,以10℃-20℃/min的速度升温至长晶温度。
9.根据权利要求8所述的高压功率器件用极厚外延片的制造方法,其特征在于,所述长晶温度为1040℃~1100℃。
10.根据权利要求8所述的高压功率器件用极厚外延片的制造方法,其特征在于,以衬底圆心为中心,150mm范围内的温度差小于等于5℃。
11.根据权利要求8所述的高压功率器件用极厚外延片的制造方法,其特征在于,第一步,以100℃-110℃/min的速度自室温升至960℃-990℃。
12.根据权利要求8所述的高压功率器件用极厚外延片的制造方法,其特征在于,第二步,以14℃-18℃/min的速度升温至长晶温度。
13.根据权利要求8所述的高压功率器件用极厚外延片的制造方法,其特征在于,所述的衬底放置于石墨坑内长晶,所述放置6寸衬底的石墨坑直径为152mm;所述放置8寸衬底的石墨坑直径为202mm。
14.根据权利要求8所述的高压功率器件用极厚外延片的制造方法,其特征在于,所述衬底为自边缘起3mm内无大于0.3μm缺陷的衬底。
15.根据权利要求8所述的高压功率器件用极厚外延片的制造方法,其特征在于,使用LPE3061系列机型外延长晶炉完成外延长晶。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于上海晶盟硅材料有限公司,未经上海晶盟硅材料有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201310240216.0/1.html,转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇:一种纳米角度变色太阳能控制膜及其制备方法
- 下一篇:一种绞龙装置
- 同类专利
- 专利分类