[发明专利]半透半反液晶显示面板及其制作方法、液晶显示装置在审

专利信息
申请号: 201310199158.1 申请日: 2013-05-24
公开(公告)号: CN103293769A 公开(公告)日: 2013-09-11
发明(设计)人: 王新星;柳在健;姚继开 申请(专利权)人: 京东方科技集团股份有限公司
主分类号: G02F1/1337 分类号: G02F1/1337;G02F1/1335;G02F1/1333
代理公司: 北京银龙知识产权代理有限公司 11243 代理人: 许静;黄灿
地址: 100015 *** 国省代码: 北京;11
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摘要:
搜索关键词: 半透半反 液晶显示 面板 及其 制作方法 液晶 显示装置
【说明书】:

技术领域

发明涉及液晶显示领域,尤其涉及一种半透半反液晶显示面板及其制作方法、液晶显示装置。

背景技术

全透型液晶显示面板在弱光或无光下阅读能力优秀,但是在户外阳光下背光亮度严重不足,单纯依靠提高背光亮度,会急速损失电量,而且效果也非常不理想。

半透半反液晶显示面板可以单独或同时采用透射模式和反射模式来显示图像,所以半透半反液晶显示面板可以在任何环境光下使用。半透半反液晶显示面板分为单盒厚半透半反液晶显示面板和厚盒厚半透半反液晶显示面板。厚盒厚半透半反液晶显示面板的制备工艺较复杂,可控性均匀性较差,因此单盒厚半透半反液晶显示面板在量产方面具有优势。现有的单盒厚半透半反液晶显示面板大部分采用摩擦取向方式或者摩擦取向与光取向混合配向方式,摩擦取向方式是一种非洁净方式,并且在反射区与透射区的过渡区的层错处产生取向不良而导致漏光;摩擦取向与光取向混合配向方式工艺复杂,并且也没有从根本上解决摩擦取向方式带来的弊端。

发明内容

本发明的主要目的在于提供一种半透半反液晶显示面板及其制作方法、液晶显示装置,解决现有技术中单盒厚半透半反液晶显示面板由于采用摩擦取向或摩擦取向与光取向混合配向,而导致的非洁净、在反射与透射过渡区的层错处产生取向不良而导致漏光以及工艺复杂的问题。

为了达到上述目的,本发明提供了一种半透半反液晶显示面板,包括:第一基板;与所述第一基板相对设置的第二基板;设置于所述第一基板和所述第二基板之间的液晶层;所述第一基板和所述第二基板之间包括透射区和反射区;

所述第一基板上设置有第一水平取向层;

所述第二基板上对应于所述透射区的区域设置有与所述第一水平取向层相对的第二水平取向层;

所述第二基板上对应于所述反射区的区域设置有与所述第一水平取向层相对的垂直取向层。

实施时,所述第一水平取向层、所述第二水平取向层和所述垂直取向层采用聚酰亚胺材料。

实施时,所述第二基板上对应于所述反射区的区域设置有反射层,所述反射层位于所述垂直取向层背向所述液晶层的一面。

实施时,所述第一基板背向所述液晶层的一面上设置有第一偏振片,以及位于所述第一偏振片与所述第一基板之间的第一λ/4相位延迟板;

所述第二基板背向所述液晶层的一面上设置有第二偏振片,以及位于所述第二偏振片与所述第二基板之间的第二λ/4相位延迟板。

实施时,所述第一偏振片的透光轴与所述第二偏振片的透光轴平行。

本发明还提供了一种液晶显示装置,包括上述的半透半反液晶显示面板。

本发明还提供了一种半透半反液晶显示面板的制作方法,所述半透半反液晶显示面板包括:第一基板;与所述第一基板相对设置的第二基板;设置于所述第一基板和所述第二基板之间的液晶层;所述第一基板和所述第二基板之间包括:透射区和反射区;所述制作方法包括:

在所述第一基板上形成第一水平取向层;

在所述第二基板上对应于所述透射区的区域形成与所述第一水平取向层相对的第二水平取向层;

在所述第二基板上对应于所述反射区的区域形成与所述第一水平取向层相对的垂直取向层。

实施时,所述第一水平取向层、所述第二水平取向层和所述垂直取向层采用聚酰亚胺材料。

实施时,在所述第一基板上形成第一水平取向层包括:在所述第一基板上涂覆水平配向的第一取向液,对所述第一取向液进行光取向形成所述第一水平取向层。

实施时,在所述第二基板上对应于所述透射区的区域形成与所述第一水平取向层相对的第二水平取向层,在所述第二基板上对应于所述反射区的区域形成与所述第一水平取向层相对的垂直取向层包括:

在第二基板上涂覆水平取向的第二取向液;

使用紫外光掩膜将所述第二基板上对应于所述反射区的区域掩盖;

采用紫外光偏振光对所述第二基板上对应于所述透射区的区域进行水平配向;

去除所述第二基板上对应于所述反射区的区域上的紫外光掩膜,使用紫外光掩膜将所述第二基板上对应于所述透射区的区域掩盖;

在所述第二基板上对应于所述反射区的区域喷涂混合液,采用非偏振紫外光对所述第二基板上对应于所述反射区的区域曝光,以形成与所述第一水平取向层相对的垂直取向层;

去除该紫外光掩膜。

实施时,去除所述第二基板上对应于所述反射区的区域上的紫外光掩膜,使用紫外光掩膜将所述第二基板上对应于所述透射区的区域掩盖包括:

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