[发明专利]一种高效紧凑的马赫-曾德尔光开关结构有效
申请号: | 201310173317.0 | 申请日: | 2013-05-10 |
公开(公告)号: | CN103293713A | 公开(公告)日: | 2013-09-11 |
发明(设计)人: | 刘克;牟思璇;黄晖 | 申请(专利权)人: | 北京工业大学 |
主分类号: | G02F1/01 | 分类号: | G02F1/01 |
代理公司: | 北京思海天达知识产权代理有限公司 11203 | 代理人: | 魏聿珠 |
地址: | 100124 *** | 国省代码: | 北京;11 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 高效 紧凑 马赫 曾德尔光 开关 结构 | ||
1.一种高效紧凑的马赫-曾德尔光开关结构,其特征在于:其包括输入波导I(1)和输入波导II(2),互相垂直交汇成十字型结构,在交汇处刻蚀分光微纳沟槽(3),所述的十字型结构中相邻的波导的两端作为光开关的输入端I(1a)和输入端II(2a),十字型结构的另外两端作为输出端分别与L型参考臂(5)和L型相移臂(6)的一端相连;所述的L型参考臂(5)和L型相移臂(6)分别构成马赫-曾德尔干涉结构中所需的一条光路;输出波导I(9)和输出波导II(10),互相垂直交汇成十字型结构,在所述的交汇处刻蚀合光微纳沟槽(8),所述的十字型结构中相邻的波导的两端作为光开关的输出端I(9b)和输出端II(10b),另外两端作为输入端分别与L型参考臂(5)和L型相移臂(6)的另一端相连。
2.根据权利要求1所述的一种高效紧凑的马赫-曾德尔光开关结构,其特征在于:分光微纳沟槽(3)和合光微纳沟槽(8)中填充沟槽填充介质材料(4);所述的分光微纳沟槽(3)与输入波导I(1)和输入波导II(2)的角度大于输入波导I(1)和输入波导II(2)所用的波导材料和分光微纳沟槽(3)中填充的沟槽填充介质材料(4)所构成的介质界面的全反射角度;所述的合光微纳沟槽(8)与输出波导I(9)和输出波导II(10)的角度大于输出波导I(9)和输出波导II(10)所用的波导材料和合光微纳沟槽(8)中填充的沟槽填充介质材料(4)所构成的介质界面的全反射角度。
3.根据权利要求1所述的一种高效紧凑的马赫-曾德尔光开关结构,其特征在于:所述的L型参考臂(5)和L型相移臂(6)分别在拐角位置刻蚀与光波传播方向成45°角的切面构成全反射镜(7)。
4.根据权利要求1所述的一种高效紧凑的马赫-曾德尔光开关结构,其特征在于:所述的光路的输入端为输入端I(1a)和输入端II(2a)两条或者仅仅为输入端I(1a)和输入端II(2a)中其中的一条,分别构成2×2和1×2光开关结构。
5.根据权利要求1、2、3、4任一权利要求所述的一种高效紧凑的马赫-曾德尔光开关结构,其特征在于:其制作在硅、绝缘体上硅(Silicon on insulator,SOI)、GeSi/Si、GaAs、GaAs/AlGaAs以及InP/InGaAsP半导体衬底材料的一种基底材料上。
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