[发明专利]触控面板及其制造方法无效

专利信息
申请号: 201310163902.2 申请日: 2013-05-07
公开(公告)号: CN103677462A 公开(公告)日: 2014-03-26
发明(设计)人: 陈维钏;郭晓文 申请(专利权)人: 杰圣科技股份有限公司
主分类号: G06F3/044 分类号: G06F3/044;G06F3/045;G02F1/1333;G02F1/1335
代理公司: 北京申翔知识产权代理有限公司 11214 代理人: 黄超;周春发
地址: 中国台湾台南*** 国省代码: 中国台湾;71
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: 面板 及其 制造 方法
【权利要求书】:

1.一种触控面板,其特征在于,包含:

一液晶单元;

一偏光片,设置于该液晶单元之上;

一第一可挠式透明基材,设置于该偏光片与液晶单元之间;

一图案化遮光层,设置于该可挠式透明基材;以及

一触控感测结构,设置于该图案化遮光层之下。

2.如权利要求1所述的触控面板,其特征在于,该触控感测结构更包括复数上感测串列和复数上周边线路,该些上感测串列设置于该第一可挠式透明基材之下,该些上周边线路设置于图案化遮光层之下。

3.如权利要求1所述的触控面板,其特征在于,更包括一第二可挠式透明基材设置于该第一可挠式透明基材之下,该第二可挠式透明基材具有复数下感测串列,该些上感测串列与该些下感测串列相互交错。

4.如权利要求1至3任一所述的触控面板,其特征在于,该第一可挠式透明基材和该第二可挠式透明基材为低位相差材质。

5.一种触控面板,其特征在于,包含:

一液晶单元;

一偏光片,设置于该液晶单元之上;

一图案化遮光层,设置于该偏光片的下表面;一触控感测结构,设置于该图案化遮光层之下。

6.如权利要求5所述的触控面板,其特征在于,该触控感测结构更包括复数上感测串列和复数上周边线路,该些上感测串列设置于该偏光片之下,该些上周边线路设置于图案化遮光层之下。

7.如权利要求5所述的触控面板,其特征在于,更包括一第二可挠式透明基材设置于该偏光片之下,该第二可挠式透明基材具有复数下感测串列,该些上感测串列与该些下感测串列相互交错。

8.如权利要求5至7任一所述的触控面板,其特征在于,该第二可挠式透明基材为低位相差材质。

9.一种触控面板的制造方法,其特征在于,包括:

提供一液晶单元;

提供一偏光片,将该偏光片设置于该液晶单元之上;

提供一第一可挠式透明基材,设置于该偏光片与液晶单元之间;

提供一图案化遮光层,设置于该第一可挠式透明基材;

提供一触控感测结构,设置于该图案化遮光层之下;

贴合该偏光片和该第一可挠式透明基材;以及

贴合该偏光片和该第一可挠式透明基材于该液晶单元之上。

10.如权利要求9所述的触控面板的制造方法,其特征在于,形成该触控感测结构,更包括形成复数上感测串列和复数上周边线路,该些上感测串列形成于该第一可挠式透明基材之下,该些上周边线路形成于图案化遮光层之下。

11.如权利要求9所述的触控面板的制造方法,其特征在于,更包括:提供一第二可挠式透明基材,设置于该第一可挠式透明基材之下,该第二可挠式透明基材具有复数下感测串列,使该些上感测串列与该些下感测串列相互交错。

12.如权利要求9或所述的触控面板的制造方法,其特征在于,形成该图案化遮光层的方法为采用印刷法、光阻微影法或喷墨法。

13.一种触控面板的制造方法,其特征在于,包括:

提供一液晶单元;

提供一偏光片,将该偏光片设置于该液晶单元之上;

提供一图案化遮光层,设置于该偏光片的下表面;

形成一触控感测结构,于该图案化遮光层之下; 

贴合该偏光片于该液晶单元。

14.如权利要求13所述的触控面板的制造法,其特征在于,形成该触控感测结构,更包括形成复数上感测串列和复数上周边线路,该些上感测串列形成于该偏光片之下,该些上周边线路形成于图案化遮光层之下。

15.如权利要求13所述的触控面板的制造方法,其特征在于,更包括:提供一第二可挠式透明基材,于该偏光片之下,该第二可挠式透明基材形成复数下感测串列,使该些上感测串列与该些下感测串列相互交错。

16.如权利要求13或所述的触控面板的制造方法,其特征在于,形成该图案化遮光层的方法为采用印刷法、光阻微影法或喷墨法。

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于杰圣科技股份有限公司,未经杰圣科技股份有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201310163902.2/1.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top