[发明专利]光伏太阳能电池片及其刻蚀方法有效
申请号: | 201310146426.3 | 申请日: | 2013-04-24 |
公开(公告)号: | CN103199158A | 公开(公告)日: | 2013-07-10 |
发明(设计)人: | 曾德栋;吴卫平;苏亚立;王家道;高鹏 | 申请(专利权)人: | 海南英利新能源有限公司 |
主分类号: | H01L31/18 | 分类号: | H01L31/18;C30B33/10 |
代理公司: | 北京康信知识产权代理有限责任公司 11240 | 代理人: | 吴贵明;张永明 |
地址: | 海南省海口市国家高新技术*** | 国省代码: | 海南;66 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 太阳能电池 及其 刻蚀 方法 | ||
技术领域
本发明涉及光伏太阳能电池技术领域,具体而言,涉及一种光伏太阳能电池片及其刻蚀方法。
背景技术
如图1所示,现有光伏太阳能电池片的刻蚀方法中,通常是用两种或三种酸混合来对光伏太阳能电池片进行湿法刻蚀的,多种酸混合时,其比例难以调试,且在后续的污水处理过程中,由于酸的种类多,各种酸的沸点也不一致,从而增加了回收的工序和成本,并且,混合酸中含有硫酸,在生产过程中会增加安全隐患。此外,使用现有设备中的混合酸对硅片背面进行刻蚀后反射率提升幅度并不大,不能有效提升电池片的转化效率。
发明内容
本发明旨在提供一种光伏太阳能电池片及其刻蚀方法,以解决现有技术中用多种酸的混合物对制作光伏太阳能电池片的基底进行刻蚀而导致的后续污水处理困难、安全性不够高以及所得到的基底的背面不够光滑的问题。
为了实现上述目的,根据本发明的一个方面,提供了一种光伏太阳能电池片的刻蚀方法,包括以下步骤:预处理步骤,对制作光伏太阳能电池片的基底进行预处理,去除基底的背面的磷硅玻璃层;刻蚀步骤,将经过预处理之后的基底放入刻蚀槽,利用碱性溶液对基底的背面进行刻蚀。
进一步地,预处理步骤包括,用氢氟酸溶液去除基底的背面的磷硅玻璃层。
进一步地,氢氟酸溶液的质量分数3%至30%。
进一步地,用氢氟酸溶液去除基底的背面的磷硅玻璃层的步骤之后,预处理步骤还包括,用去离子水对基底进行清洗。
进一步地,碱性溶液为氢氧化钾溶液。
进一步地,氢氧化钾溶液的质量分数为10%至50%。
进一步地,当利用碱性溶液进行刻蚀时,碱性溶液的温度为25摄氏度至70摄氏度。
进一步地,去除基底的背面的磷硅玻璃层时,基底被支撑在刻蚀槽的滚轮上面,并且基底的扩散面高于氢氟酸溶液的液面;利用碱性溶液对基底进行刻蚀时,利用滚轮携带药液的方式对基底的背面进行刻蚀。
进一步地,利用碱性溶液对基底的背面进行刻蚀的步骤之后,还包括后处理步骤,后处理步骤包括:用质量分数为1%至5%的氢氧化钾溶液对制作光伏太阳能电池片的基底进行上喷淋式清洗;用去离子水对对基底进行清洗;用质量分数为4%至10%的氢氟酸溶液对基底进行清洗;用去离子水对基底进行清洗;对光伏太阳能电池片进行烘干。
进一步地,基底为硅片。
根据本发明的另一方面,提供了一种光伏太阳能电池片,光伏太阳能电池片由上述的光伏太阳能电池片刻蚀方法刻蚀而成。
应用本发明的技术方案,光伏太阳能电池片的刻蚀方法包括以下步骤:预处理步骤,对制作光伏太阳能电池片的基底进行预处理,去除基底的背面的磷硅玻璃层;刻蚀步骤,将经过预处理之后的所述基底放入刻蚀槽,利用碱性溶液对基底的背面进行刻蚀。根据本发明的光伏太阳能电池片的刻蚀方法可以有效降低后续的污水处理难度,避免现有技术中因使用硫酸而给生产上带来的安全隐患,与此同时,用碱性溶液对制作光伏太阳能电池片的基底进行刻蚀时,碱与基底的反应可以达到很好的抛光效果,从而增加最终得到的光伏太阳能电池片对长波的吸收,提高光伏太阳能电池片的转换效率。
附图说明
构成本发明的一部分的附图用来提供对本发明的进一步理解,本发明的示意性实施例及其说明用于解释本发明,并不构成对本发明的不当限定。在附图中:
图1示出了现有的光伏太阳能电池片刻蚀方法的流程图;以及
图2示出了根据本发明的光伏太阳能电池片及其刻蚀方法的流程图。
具体实施方式
下文中将参考附图并结合实施例来详细说明本发明。需要说明的是,在不冲突的情况下,本申请中的实施例及实施例中的特征可以相互组合。
术语解释:
太阳能电池的转化效率:定义为Eff=P/(MS)(M为辐射照度;S为电池的面积),即受光照射的太阳能电池片的最大功率与入射到该电池片上全部功率的百分比。
抛光:是指利用机械、化学或电学的作用,使工件表面粗糙度降低,以获得光亮、平整表面的加工方法。
刻蚀:通过溶液、反应离子或其他机械方式来剥离、去除材料的一种统称。
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