[发明专利]有机电致发光器件及其封装方法

说明书

技术领域

本发明涉及电致发光技术领域，特别是涉及一种有机电致发光器件及其封装方法。

背景技术

有机电致发光器件（OLED）是基于有机材料的一种电流型半导体发光器件。其典型结构是在ITO玻璃上制作一层几十纳米厚的有机发光材料作发光层，发光层上方有一层低功函数的金属电极。当电极上加有电压时，发光层就产生光辐射。

OLED器件具有主动发光、发光效率高、功耗低、轻、薄、无视角限制等优点，被业内人士认为是最有可能在未来的照明和显示器件市场上占据霸主地位的新一代器件。作为一项崭新的照明和显示技术，OLED技术在过去的十多年里发展迅猛，取得了巨大的成就。由于全球越来越多的照明和显示厂家纷纷投入研发，大大的推动了OLED的产业化进程，使得OLED产业的成长速度惊人，目前已经到达了大规模量产的前夜。

然而，OLED中的发光层对于大气中的污染物、氧气、水汽等十分敏感，在污染物、氧气及水汽等的作用下发生化学反应会导致发光量子效率的降低，而阴极一般由较活泼的金属形成，在空气或氧气中易受侵蚀，从而导致OLED的稳定性较差，使用寿命较短。

发明内容

基于此，有必要提供一种使用寿命较长的有机电致发光器件及其封装方法。

一种有机电致发光器件，包括依次层叠的阳极、空穴注入层、空穴传输层、发光层、电子传输层、电子注入层及阴极，还包括层叠于所述阴极上的5～7个保护层，每个保护层包括有机阻挡层及层叠于所述有机阻挡层上的无机阻挡层；其中，所述有机阻挡层由酞菁铜、N,N'-二苯基-N,N'-二(1-萘基)-1,1'-联苯-4,4'-二胺、(8-羟基喹啉)-铝、4,4',4''-三(N-3-甲基苯基-N-苯基氨基)三苯胺或2,9-二甲基-4,7-联苯-1,10-邻二氮杂菲形成，所述无机阻挡层由氧化二铼、氧化铼、三氧化二铼、二氧化铼、五氧化二铼及三氧化铼中的一种与氟化锂、氟化铈、氟化镁、氟化铝、氟化钙及氟化钡中的一种混合形成。

在其中一个实施例中，所述氧化二铼、氧化铼、三氧化二铼、二氧化铼、五氧化二铼及三氧化铼中的一种占所述无机阻挡层的质量分数为10～30%。

在其中一个实施例中，所述有机阻挡层的厚度为200纳米～300纳米。

在其中一个实施例中，所述无机阻挡层的厚度为200纳米～300纳米。

一种有机电致发光器件的封装方法，包括如下步骤：

步骤一：提供阳极，采用真空蒸镀在所述阳极上形成空穴注入层；

步骤二：采用真空蒸镀在所述空穴注入层上形成空穴传输层；

步骤三：采用真空蒸镀在所述空穴传输层上形成发光层；

步骤四：采用真空蒸镀在所述发光层上形成电子传输层；

步骤五：采用真空蒸镀在所述电子传输层上形成电子注入层；

步骤六：采用真空蒸镀在所述电子注入层上阴极；

步骤七：采用真空蒸镀在所述阴极上形成有机阻挡层，所述有机阻挡层由酞菁铜、N,N'-二苯基-N,N'-二(1-萘基)-1,1'-联苯-4,4'-二胺、(8-羟基喹啉)-铝、4,4',4''-三(N-3-甲基苯基-N-苯基氨基)三苯胺或2,9-二甲基-4,7-联苯-1,10-邻二氮杂菲形成；

步骤八：采用真空蒸镀在所述有机阻挡层上形成无机阻挡层，所述无机阻挡层由氧化二铼、氧化铼、三氧化二铼、二氧化铼、五氧化二铼及三氧化铼中的一种与氟化锂、氟化铈、氟化镁、氟化铝、氟化钙及氟化钡中的一种混合形成，所述有机阻挡层和无机阻挡层形成一个保护层；

步骤九：交替重复所述步骤七和所述步骤八4至6次，在所述阴极上形成5～7个保护层，得到有机电致发光器件。

在其中一个实施例中，所述步骤七～步骤九中，真空蒸镀的真空度为1×10^-5Pa～1×10^-3Pa。

在其中一个实施例中，所述步骤七～步骤九中，蒸发速度为

在其中一个实施例中，所述采用真空蒸镀在所述阳极上形成空穴注入层的步骤之前，还包括对阳极的清洗步骤，所述清洗步骤为：将所述阳极依次放入丙酮、乙醇、去离子水及乙醇中进行超声清洗，每次超声清洗5分钟，然后用氮气吹干，再用烘箱烘干。

在其中一个实施例中，所述清洗步骤完成之后，所述采用真空蒸镀在所述阳极上形成空穴注入层的步骤之前还包括对所述阳极进行表面活化处理的步骤，所述活化处理的步骤为：采用紫外-臭氧对清洗干燥后的阳极进行处理30～50分钟。