[发明专利]有机电致发光装置及其制备方法无效

专利信息
申请号: 201310076778.6 申请日: 2013-03-11
公开(公告)号: CN104051634A 公开(公告)日: 2014-09-17
发明(设计)人: 周明杰;王平;冯小明;陈吉星 申请(专利权)人: 海洋王照明科技股份有限公司;深圳市海洋王照明技术有限公司;深圳市海洋王照明工程有限公司
主分类号: H01L51/50 分类号: H01L51/50;H01L51/54;H01L51/56
代理公司: 广州华进联合专利商标代理有限公司 44224 代理人: 何平
地址: 518100 广东省深*** 国省代码: 广东;44
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摘要:
搜索关键词: 有机 电致发光 装置 及其 制备 方法
【说明书】:

技术领域

发明涉及有机电致发光技术领域,特别是涉及一种有机电致发光装置及其制备方法。

背景技术

有机电致发光(Organic Light Emission Diode,OLED)装置具有亮度高、材料选择范围宽、驱动电压低、全固化主动发光等特性,同时拥有高清晰、广视角以及响应速度快等优势,是一种极具潜力的显示技术和光源,符合信息时代移动通信和信息显示的发展趋势,以及绿色照明技术的要求,是目前国内外众多研究者的关注重点。

尽管全世界各国的科研人员通过选择合适的有机材料和合理的发光装置结构设计,已使发光装置性能的各项指标得到了很大的提升,但是传统的发光装置需要较大的驱动电压且发光效率低,而且还存在发光装置寿命低的问题。为了实现有机电致发光装置的实用化,人们急于寻找一种驱动电压小,发光效率高的有机电致发光装置。

有机电致发光装置的发光效率通常依赖于载流子的注入效率、传输效率,以及和激子复合发光的效率。其中,载流子包括空穴和电子,提高载流子注入效率能够使在装置中进行碰撞并辐射发光的空穴-电子对增多,因而可以大大提高发光效率。空穴在注入效率与阳极与有机发光功能层之间的注入势垒有关,电子在注入效率与阴极与有机发光功能层的注入势垒有关。但是有机发光功能层的HOMO能级通常在5.1~5.7eV,而常见阳极表面的功函比其低很多,如常用的ITO阳极表面的功函为4.7eV,因此空穴从阳极注入到有机发光功能层的势垒较高。从而空穴的注入效率较低,进而导致有机电致发光装置的发光效率较低,而且需要较大的驱动电压。

发明内容

基于此,有必要提供一种发光效率较高的有机电致发光装置。

一种有机电致发光装置,包括透光基底以及依次层叠设置于所述透光基底上的阳极层、无机氧化物层、有机层、有机发光功能层及阴极层;所述无机氧化物层的材料为三氧化钼(MoO3)、三氧化铼(ReO3)、三氧化钨(WO3)、三氧化二锑(Sb2O3)或氧化镍(NiO);所述有机层的材料为金属酞菁配合物。

在其中一个实施例中,所述金属酞菁配合物为酞菁铜、酞菁锌、酞菁氧钒、酞菁氧钛或酞菁铂。

在其中一个实施例中,所述无机氧化物层的厚度为1~10nm;所述有机层的厚度为5~20nm。

在其中一个实施例中,所述有机发光功能层包括依次层叠设置的空穴传输层、发光层及电子传输层,其中,所述空穴传输层设在所述阳极层上。

在其中一个实施例中,所述空穴传输层的材料为4,4',4"-三(2-萘基苯基氨基)三苯基胺、N,N'-二苯基-N,N'-二(1-萘基)-1,1'-联苯-4,4'-二胺、(4,4',4"-三(N-3-甲基苯基-N-苯基氨基)三苯胺、N,N'-二苯基-N,N'-二(3-甲基苯基)-1,1'-联苯-4,4'-二胺或4,4',4"-三(咔唑-9-基)三苯胺;所述电子传输层的材料为2-(4-联苯基)-5-(4-叔丁基)苯基-1,3,4-二唑、4,7-二苯基-邻菲咯啉、1,3,5-三(1-苯基-1H-苯并咪唑-2-基)苯、2,9-二甲基-4,7-联苯-1,10-邻二氮杂菲或1,2,4-三唑衍生物。

在其中一个实施例中,所述发光层为发光材料与主体材料的混合物,所述发光材料为4-(二腈甲基)-2-丁基-6-(1,1,7,7-四甲基久洛呢啶-9-乙烯基)-4H-吡喃、双(4,6-二氟苯基吡啶-N,C2)吡啶甲酰合铱、双(4,6-二氟苯基吡啶)-四(1-吡唑基)硼酸合铱、二(2-甲基-二苯基[f,h]喹喔啉)(乙酰丙酮)合铱、三(1-苯基-异喹啉)合铱及三(2-苯基吡啶)合铱中的至少一种,所述主体材料为4,4'-二(9-咔唑)联苯、8-羟基喹啉铝、1,3,5-三(1-苯基-1H-苯并咪唑-2-基)苯或N,N'-二苯基-N,N'-二(1-萘基)-1,1'-联苯-4,4'-二胺,所述发光材料与所述主体材料的质量百分比为1%~10%;或者

所述发光层的材料为4,4'-二(2,2-二苯乙烯基)-1,1'-联苯、4,4'-双[4-(二对甲苯基氨基)苯乙烯基]联苯或5,6,11,12-四苯基萘并萘。

在其中一个实施例中,所述空穴传输层的厚度为20~60nm,所述发光层的厚度为1~20nm,所述电子传输层的厚度为20~60nm。

在其中一个实施例中,所述阳极层的材料为铟锡氧化物、铟锌氧化物、铝锌氧化物或镓锌氧化物,所述阳极层的厚度为70~200nm。

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