[发明专利]处理装置和处理方法有效
申请号: | 201310070532.8 | 申请日: | 2013-03-06 |
公开(公告)号: | CN103301992A | 公开(公告)日: | 2013-09-18 |
发明(设计)人: | 藤田博;矶明典;添田胜之;西部幸伸;佐佐木真一 | 申请(专利权)人: | 株式会社东芝;芝浦机械电子株式会社 |
主分类号: | B05C5/00 | 分类号: | B05C5/00;B05C11/00;B05C11/10;C03C15/00;C03C17/00 |
代理公司: | 永新专利商标代理有限公司 72002 | 代理人: | 杨谦;胡建新 |
地址: | 日本*** | 国省代码: | 日本;JP |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 处理 装置 方法 | ||
1.一种处理装置,具备:
输送部,输送被处理物;
回收部,回收已供给到由所述输送部输送的所述被处理物的处理面上的第一处理液;
第一喷嘴,将由所述回收部回收的所述第一处理液向所述被处理物的处理面喷出;
第二喷嘴,设置在所述第一喷嘴的输送方向的下游侧,向所述被处理物的处理面喷出第二处理液;以及
第三喷嘴,设置在所述第二喷嘴的输送方向的下游侧,向所述被处理物的处理面喷出清洗液,
所述第二喷嘴朝着与相对所述输送方向垂直的方向相比向所述输送方向的下游侧喷出所述第二处理液,
所述第三喷嘴朝着与相对所述输送方向垂直的方向相比向所述输送方向的上游侧喷出所述清洗液。
2.根据权利要求1所述的处理装置,所述第一处理液中含有的对处理有效的成分和所述第二处理液中含有的对处理有效的成分相同。
3.根据权利要求1或2所述的处理装置,所述处理面上的第二处理液的供给位置与所述处理面上的所述清洗液的供给位置之间的距离大于等于160mm且小于等于240mm。
4.根据权利要求1或2所述的处理装置,所述被处理物的输送速度小于等于50mm/s,所述第二处理液和所述清洗液的供给量大于等于16升/min且小于等于32升/min。
5.根据权利要求3所述的处理装置,所述被处理物的输送速度小于等于50mm/s,所述第二处理液和所述清洗液的供给量大于等于16升/min且小于等于32升/min。
6.一种处理方法,从喷嘴向所输送的被处理物的处理面喷出处理液来处理所述被处理物,包括:
回收已供给到所输送的所述被处理物的处理面上的第一处理液的工序;
将回收的所述第一处理液从第一喷嘴向所述被处理物的处理面喷出的工序;
在所述第一喷嘴的输送方向的下游侧,从第二喷嘴向所述被处理物的处理面喷出第二处理液的工序;以及
在所述第二喷嘴的输送方向的下游侧,从第三喷嘴向所述被处理物的处理面喷出清洗液的工序,
在所述第一喷嘴的输送方向的下游侧,从第二喷嘴向所述被处理物的处理面喷出第二处理液的工序中,从所述第二喷嘴朝着与相对输送方向垂直的方向相比向所述输送方向的下游侧喷出所述第二处理液,
在所述第二喷嘴的输送方向的下游侧,从第三喷嘴向所述被处理物的处理面喷出清洗液的工序中,从所述第三喷嘴朝着与相对输送方向垂直的方向相比向所述输送方向的上游侧喷出所述清洗液。
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