[发明专利]等离子处理装置以及试料台

权利要求书

1.一种等离子处理装置，是将晶片放置在配置于真空容器内部的处理室内的试料台上，使用在上述处理室内形成的等离子处理上述晶片的等离子处理装置，其中，

上述等离子处理装置包括多个加热器，上述多个加热器被配置在具有圆筒形状的上述试料台的内部，上述试料台的内部配置有圆板或圆筒形状的基材，上述多个加热器被配置于上述基材的上方，并且上述多个加热器被配置在关于从上述基材的中心朝向外周侧的径向以及上述中心周围的圆周方向被分成的多个区域内，

上述等离子处理装置还包括：

控制部，调节这些多个加热器的发热量；以及

高频电源，对上述基材供给高频电力而在上述晶片的上方形成偏置电位，

关于上述径向被分成的上述多个区域各自包括在上述中心周围的圆周方向上延伸的圆弧状的区域，在关于该径向被分成的多个区域的相邻的区域中，径向外侧的区域的上述圆弧状的区域具有沿着上述基材的中心周围的圆周方向的整周被分成多个而配置的多个区域，被分成多个的该区域的个数比上述相邻的径向内侧的区域的上述圆弧状的区域的个数多，在关于上述径向被分成的多个区域中的径向外侧的区域的至少一个区域中，一个该圆弧状的区域的被分成多个的上述区域分别配置有上述多个加热器中的一个，该多个加热器相对于一个直流电源串联连接构成串联电路，并且

上述串联电路包括：多个调节器，与构成上述串联电路的上述多个加热器分别并联连接而构成该电路，并且调节流过各自被并联连接的各个加热器的电流的量；供电用线路，用于供应来自上述直流电源的电力，其中，构成上述串联电路的上述多个加热器中的一个加热器和关于上述圆周方向与该一个加热器邻接的另一个加热器分别连接于上述直流电源；以及用于上述高频电力的滤波器，在该供电用线路上配置在上述多个加热器和上述直流电源之间，上述控制部具有调节上述多个调节器的功能，通过该控制部调节上述多个加热器各自的发热量。

2.根据权利要求1所述的等离子处理装置，其特征在于：

在关于上述径向被分成的上述多个区域中的各个区域中串联配置的上述多个加热器各自相对于直流电源串联配置构成电路，并且上述等离子处理装置包括多个调节器，上述多个调节器与上述串联电路的各个加热器并联连接构成上述电路，并且上述多个调节器调节流过各自被并联连接的各个加热器的电流的量。

3.根据权利要求1或者2所述的等离子处理装置，其特征在于：

上述调节器配置在上述试料台的上述基材的下方内部设置成大气压的空间，上述滤波器配置在上述真空容器的外部。

4.根据权利要求3所述的等离子处理装置，其特征在于：

上述调节器针对上述高频电力的阻抗比上述电路的上述加热器和上述直流电源之间的阻抗明显小。

5.根据权利要求1或者2所述的等离子处理装置，其特征在于：配置于关于上述径向分成的多个区域的上述多个加热器各自和与各自对应的直流电源电连接，所提供的电力由上述控制部调节。