[发明专利]一种去除多晶硅中的磷的方法有效

专利信息
申请号: 201310044719.0 申请日: 2013-02-04
公开(公告)号: CN103072995A 公开(公告)日: 2013-05-01
发明(设计)人: 陈晓萍;龚炳生;李伟生 申请(专利权)人: 福建兴朝阳硅材料股份有限公司
主分类号: C01B33/037 分类号: C01B33/037
代理公司: 北京元中知识产权代理有限责任公司 11223 代理人: 王彩霞
地址: 364211 *** 国省代码: 福建;35
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摘要:
搜索关键词: 一种 去除 多晶 中的 方法
【说明书】:

技术领域

本发明涉及太阳能级多晶硅提纯领域,尤其是涉及一种低真空造渣的去除多晶硅中磷的方法。

背景技术

近年来,国内外都在大力发展可再生能源,而太阳能以其独特的优势而广泛发展。太阳能电池有薄膜电池及硅晶体电池,而薄膜电池由于转换效率较低制约其发展。硅晶体电池由于原料来源丰富、转换率高而成为太阳能电池的发展的首选。多晶硅太阳能电池成为全球关注的热点。多晶硅提纯主要有改良西门子法及物理法。采用改良西门子法制备高纯多晶硅的工艺较为复杂,投资成本高,且中间产品SiHCl3(或SiCl4)有剧毒,存在安全隐患。而冶金法主要是利用不同元素的物理性质差异来使之分离,主要包括吹气、造渣、等离子体、定向凝固、电子束熔炼等。工艺相对简单,成本低廉,且对环境的造成污染相对较小,已成为太阳能级多晶硅的主要发展方向。

磷杂质会影响硅材料的电阻率和少子寿命,从而影响太阳能电池的转换效率及使用寿命。磷的分凝系数为0.35,无法像金属杂质一样通过定向凝固有效的去除。磷的饱和蒸汽压较高,目前除磷的主要方式是利用高真空冶炼除磷。

中国专利申请CN101289188A公开了去除多晶硅中杂质磷和金属杂质的方法及装置,先将真空室抽低真空至1Pa,再抽高真空至1.2x10-2~1.0x10-1Pa,并配合电子束熔炼,而达到去除杂质磷的目的。中国专利申请CN101905886A公开了一种电子束梯度熔炼提纯多晶硅的方法,将预先处理的金属硅放置高真空室中,真空度为1.0x10-2~1.5x10-2Pa,逐步降低电子束的束流熔炼挥发除磷。以上专利申请均采用了真空配合电子束熔炼,能耗大、成本高。中国专利申请CN201210024702.4公开了一种掺杂氯化物的渣系去除工业硅中硼磷杂质的方法,具体步骤:配好造渣剂;将工业硅加入石墨坩埚中;启动中频感应电源加热,均匀增加功率,使物料熔化,保持温度在1600-1800℃,同时搅拌使硅液和造渣剂混合反应,造渣充分后,降低中频频率,将渣系倒入应接水箱中,水冷后硅与渣分离,所述的渣系为Na2CO3-SiO2-RCl,RCl为CaCl2,MgCl2,AlCl3,这种方法中的渣系对磷的去除效果还有待于提高。

鉴于此,特提出本发明。

发明内容

本发明的目的是提供一种去除多晶硅中的磷的方法,该方法去除磷效果明显,同时也降低硼的含量,且在低真空度下进行,能耗低,即生产成本降低。所得的多晶硅中磷的含量在0.2ppm以下。

本发明的另一个目的是提供一种去除多晶硅中的磷的装置,该装置结构简单,且容易操作。

为实现本发明的第一个发明目的,一种去除多晶硅中的磷的方法,包括如下步骤:

(1)金属硅与造渣剂以质量比为100:1~100:10在石墨坩埚中混合,其中,造渣剂为NaCl-KCl-LiCl-AlCl3

(2)加热步骤(1)的混合物,至金属硅完全熔化成硅液,保持硅液温度在1550~1800℃;

(3)对石墨坩埚内抽真空,至压强在1~10Pa,同时,往硅液中通入氩气,速率为10~15L/min;

(4)静置1~2h后,保持硅液温度在1450~1550℃,石墨坩埚以0.10~0.15mm/min的速率下降,离开加热区,进行定向凝固,冷却后取出硅锭,切除上层杂质富集区,得到提纯后多晶硅。

所述的金属硅中杂质的含量B为2.3ppm,P为10.2ppm,Fe为752ppm,Al为362ppm,Ca为27ppm。

所述造渣剂中NaCl质量百分比占20~30%,KCl的质量百分比占20~30%,LiCl的质量百分比占20~30%,余为AlCl3

优选的,金属硅与造渣剂的质量比100:5~100:10。

所述的步骤(2)的加热采用感应加热,使熔融硅液的温度保持在1550~1800°C。感应加热的时候,采用中频熔融原料硅,中频炉功率控制在100~200KW。

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