[发明专利]一种多孔氮化硼的制备方法

说明书

 

技术领域

本发明涉及一种制备多孔氮化硼的方法，属于无机非金属材料领域。

背景技术

多孔材料可广泛用于催化剂载体、储氢材料、化学过滤提纯等领域。常用的多孔氧化物载体，如SiO₂、γ-Al₂O₃、沸石分子筛等虽能够提供较高的比表面积，但其热导效率非常低(易导致载体和金属之间发生烧结)，具有亲水性表面(易引起催化剂表面覆盖上一层来自周围环境中的水)，化学活性强(易在催化剂表面形成酸性点或碱性点)，此类载体在一些苛刻的反应条件下，如高温高压、强酸、原料杂质含量高时，将导致催化剂活性和寿命大大降低，故多孔氧化物载体的应用范围受到一定的限制。

多孔氮化硼憎水性强、化学稳定性高、熔点高、密度低、热导性好、电绝缘性好，并且在高温和强光照条件下仍具有很好的抗氧化性，抗氧化温度达到800℃以上，因此它可用作高温催化剂载体材料。众所周知，催化剂载体的比表面积越高，越有利于活性组分的分散，从而提高其催化活性，然而市售氮化硼均是块体氮化硼，比表面仅为25m²/g左右，比一般催化剂载体的比表面低很多。因此，探索高比表面多孔氮化硼的制备技术具有重要的意义。

目前，国内外文献已报道过很多种高比表面多孔氮化硼材料的制备技术，这些技术主要包括以下三类:①水热、溶剂热合成法；②模板法；③有机先驱体热解法。然而，这几种方法均存在一些缺点：如水热、溶剂热合成法制得的产品产率普遍偏低，多数原料不稳定且有毒，对环境污染比较大；另外大部分工作停留在实验室几十毫升的小高压釜水平上且多为工艺研究，基础性的研究较少，工程化方面的研究力度不够，以致许多研究成果难以及时转化为工业规模生产。模板法在产物的后处理当中会遇到困难，模板的成分很难得到有效地去除，另外在分离模板的过程中很难避免氮化硼的多孔结构被破坏。有机先驱体热解法采用的最多的先驱体是单组元先驱体，主要有氨基硼烷及其聚合物、三氯硼吖嗪及其聚合物、硼吖嗪及其聚合物三类，尽管这种方法能够制得高产率、高纯度、高比表面的氮化硼，但是涉及到的有机前驱体的合成却很复杂，而且产量较低，这大大限制了这种方法的应用和发展。因此，探索经济实用的无模板、无毒、无污染且产量大的制备技术具有十分重要的意义。多孔陶瓷的制备技术中常用到一种发泡工艺，这种工艺主要指在陶瓷组分中添加有机或无机化学物质，在处理阶段形成挥发的气体，产生泡沫，形成孔隙，经过干燥和烧结制成多孔陶瓷。该工艺的特点是通过发泡剂释放的气体扩散到陶瓷悬浮体中来获得多孔结构，悬浮体一般包括陶瓷粉末、溶剂、表面活性剂等。泡沫悬浮液可通过机械发泡、注入气流、利用化学反应产生的气体或热解的低熔点的溶剂的挥发等途径获得。发泡工艺制备多孔陶瓷选用的发泡体系主要有物理发泡剂、无机发泡剂、有机发泡剂以及表面活性剂四类，其中表面活性剂是最常用的起泡剂，利用它通过机械搅拌可以形成较稳定的泡沫。

发明内容

本发明所要解决的技术问题是克服现有技术的不足，提供一种无毒、无污染且产量大的多孔氮化硼的制备方法。

本发明方法通过料浆发泡法制备氮化硼前驱体，再在流动氮气气氛中使前驱体高温热解、在热解的过程中形成孔隙而制得高比表面多孔氮化硼的方法。

本发明解决上述问题采用的技术方案是：

(1) 将氮化合物和硼化合物按摩尔比1:1～10的比例称量，配置成总浓度为0.03～0.1g/ml的混合水溶液；在混合水溶液中加入1wt%～20wt%的表面活性剂；

(2) 将步骤(1)制得的混合水溶液在30～100℃的恒定温度下剧烈搅拌，1～10h之后停止搅拌，置于空气中自然冷却12～24h，经抽滤、水洗、真空干燥16～24h之后得到氮化硼纤维前驱体；

(3) 将步骤(2)制得的氮化硼纤维前驱体，置于真空管式炉内，在1300℃～1900℃氮气气氛中煅烧0.5～8h，随后自然冷却；

(4) 将步骤(3)得到的高温热解产物，置于马弗炉内，在450℃～700℃空气中煅烧1～5h，得到最终产物。

步骤（3）中，氮气流量为50～400ml/min。

所述氮化物为三聚氰胺；

所述硼化物为硼酸；

所述表面活性剂为十二烷基苯磺酸钠、十二烷基磺酸钠或十二烷基硫酸钠。