[发明专利]处理装置和处理状态的确认方法

权利要求书

1.一种处理装置，其特征在于，包括：

收纳被处理体的处理容器；

气体供给通路，其与供给至所述处理容器内的处理气体的种类对应地设置于多个系统；

配置于所述多个系统的各个气体供给通路，进行所述气体供给通路的开启和关闭的多个阀门；

测量部，其测量所述气体供给通路的处理气体的物理参数；

寄存部，其保存由所述测量部测量到的所述物理参数；和

控制部，其根据保存于所述寄存部的所述物理参数的信息，判断处理的状态，其中，

所述寄存部设置于下级的控制单元，该下级的控制单元以能够与所述控制部进行信号的发送和接收的方式与所述控制部连接并受所述控制部控制，并且对所述控制部与终端器件之间的输入输出信号进行控制。

2.如权利要求1所述的处理装置，其特征在于：

在所述多个系统的气体供给通路的一部分或全部还设置有缓冲罐，该缓冲罐作为所述气体供给通路的一部分设置在与所述阀门相比位于气体供给方向的上游侧的位置，

所述测量部为测量所述缓冲罐内的气体压力的压力计，

所述物理参数为所述缓冲罐内的气体压力的变化的最大值和/或最小值。

3.如权利要求2所述的处理装置，其特征在于：

所述控制部在所述最大值和/或最小值超过规定的阈值时判断为处理异常。

4.如权利要求1所述的处理装置，其特征在于：

所述测量部为：在所述气体供给通路中设置于与所述阀门相比位于气体供给方向的上游侧的位置，并对通过该气体供给通路的气体流量进行测量的流量计，

所述物理参数为在单位期间内由所述流量计测量出的气体流量的累计值。

5.如权利要求4所述的处理装置，其特征在于：

所述单位期间为对被处理体交替供给多个种类的气体来进行成膜的ALD处理中的一个循环。

6.如权利要求1~5中的任一项所述的处理装置，其特征在于：

该处理装置为对被处理体交替供给多个种类的气体来进行成膜的ALD装置。

7.一种处理状态的确认方法，其为在处理装置中对处理的状态进行判断的处理状态的确认方法，其中，所述处理装置包括：

收纳被处理体的处理容器；

气体供给通路，其与供给至所述处理容器内的处理气体的种类对应地设置于多个系统；

配置于所述多个系统的各个气体供给通路，进行所述气体供给通路的开启和关闭的多个阀门；

测量部，其测量所述气体供给通路中的处理气体的物理参数；

寄存部，其保存由所述测量部测量到的所述物理参数；和

控制部，其根据保存于所述寄存部的所述物理参数的信息，判断所述处理的状态，

所述处理状态的确认方法的特征在于，包括：

所述寄存部保存所述物理参数的步骤；和

所述控制部从所述寄存部取得有关所述物理参数的信息，对所述处理的状态进行判断的步骤，

所述寄存部设置于下级的控制单元，该下级的控制单元以能够与所述控制部进行信号的发送与接收的方式与所述控制部连接，并受所述控制部控制，并且对所述控制部与终端器件之间的输入输出信号进行控制。

8.如权利要求7所述的处理状态的确认方法，其特征在于：

所述处理装置，在所述多个系统的气体供给通路的一部分或全部还设置有缓冲罐，该缓冲罐作为所述气体供给通路的一部分设置在与所述阀门相比位于气体供给方向的上游侧的位置，

所述测量部为测量所述缓冲罐内的气体压力的压力计，

所述物理参数为所述缓冲罐内的气体压力的变化的最大值和/或最小值。

9.如权利要求8所述的处理状态的确认方法，其特征在于：

所述控制部在所述气体压力的变化的最大值和/或最小值超过规定的阈值时判断为处理异常。

10.如权利要求7所述的处理状态的确认方法，其特征在于：

所述测量部为：在所述气体供给通路中设置于与所述阀门相比位于气体供给方向的上游侧的位置，并对通过该气体供给通路的气体流量进行测量的流量计，

所述物理参数为在单位期间内通过所述流量计测量出的气体流量的累计值。