[发明专利]一种护肤祛斑霜及其制备方法无效

专利信息
申请号: 201310001817.6 申请日: 2013-01-05
公开(公告)号: CN102988215A 公开(公告)日: 2013-03-27
发明(设计)人: 不公告发明人 申请(专利权)人: 湖南奇异生物科技有限公司
主分类号: A61K8/92 分类号: A61K8/92;A61K8/06;A61Q19/08;A61Q19/02
代理公司: 暂无信息 代理人: 暂无信息
地址: 410008 湖南省长沙市国*** 国省代码: 湖南;43
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摘要:
搜索关键词: 一种 护肤 祛斑 及其 制备 方法
【说明书】:

技术领域

    本发明涉及一种护肤祛斑霜及其制备方法。

背景技术

    随着人们当前生活水平的不断提高,以天然植物提取物为主要原料的化妆品已成为市场消费的主流,消费量逐年增长。目前国内最广泛使用并且共认安全的美白祛斑材料是熊果昔、维生素C和曲酸,这些物质安全性高,但同时也存在效果不明显的缺点。猕猴桃籽油是以猕猴桃果籽为原料,经干燥、粉碎、超临界萃取等工序提取而成,猕猴桃籽油富含多种不饱和脂肪酸、黄酮类、酚类、维生素、微量元素硒、氨基酸及其它生物活性物质,其中亚麻酸、亚油酸含量占75%以上。猕猴桃籽油富含的多不饱和脂肪酸能有效加速人体酪氨酸酶蛋白降解,抑制酪氨酸酶的活性,从而减少黑色素的生成,达到祛斑的作用,同时高含量的不饱和脂肪酸可以在皮肤表面形成疏水性薄膜,赋予皮肤柔软、润滑和光泽性。猕猴桃籽油中还富含天然维生素E和硒元素,它们能有效地清除自由基,非竞争性抑制酪氨酸酶的活性,从而能有效地祛斑,是公认的抗衰老、祛斑增白的重要因子。

本发明涉及一种含有猴桃籽油的护肤祛斑霜及其制备方法,其主要原料猕猴桃籽油作为一种具有祛斑功能的新型化妆品原料资源,已广泛应用于化妆品领域,市场潜力巨大。

发明内容

本发明的目的在于提供一种护肤祛斑霜及其制备方法,以满足人们对天然植物提取物为主要原料的祛斑类化妆品的需求。

为实现上述目的,本发明的技术解决方案是:一种护肤祛斑霜及其制备方法,其特征在于它由以下原料和步骤组成,所述各原料的重量配比为:

(1)猕猴桃籽40~45份,(2)肉豆蔻酸异丙酯2~4份,(3)辛酸癸酸三甘油酯1~3份,(4) L-乳酸2~5份,(5)乳酸钠0.5~1份,(6) Span-80(失水山梨糖醇脂肪酸酯) 1~1.5份,(7) Tween-80 (失水山梨醇单油酸酯聚氧乙烯醚) 3.5~4份,(8) Germaben II (30%双咪唑烷基脲、11%尼泊金甲酯、3%尼泊金丙酯、56%丙二醇) 0.3~1份,(9)香精0.1~0.2份,余量为去离子水;

所述的各步骤如下:

A.油相的制备,将上述比例的猕猴桃籽油和其他油溶性原料肉豆蔻酸异丙酯、辛酸癸酸三甘油酯、Span-80混合搅拌加热至70-75℃,使其充分熔化或溶解待用;

B.水相的制备,将上述比例的水溶性原料L-乳酸、乳酸钠和Tween-80加入去离子水中,搅拌加热至90-100℃,保持20分钟灭菌,然后冷却至70-80℃待用;

C.乳化,将上述油相和水相原料分别过滤后,按先水后油顺序加入乳化锅内,在温度70-80℃下进行搅拌,待油、水相原料充分混合均匀成乳浊液后,再加入双咪唑烷基脲防腐剂,搅拌均匀,即完成乳化操作;

D.冷却,将步骤C得到的乳化后原料冷却至50-60℃,加入香精,再搅拌5分钟,继续降温到35-40℃出料;

E.均质处理,出料后经超高压纳米均质机均质处理使物料粒径在200nm以下;

F.陈化和灌装,放料至贮料容器内,置于贮膏间陈化不少于48小时,经检验合格后进行灌装。

    本发明的有益效果是:本发明根据猕猴桃籽油对皮肤所具有的祛斑、美白、抗老化活性,通过添加乳化剂、防腐剂、增稠剂、香精等成分进行乳化分散,通过均质处理增强产品渗透性,制备出一种护肤祛斑霜,可起到美白、祛斑和护肤的作用。

具体实施方式

下面结合实施例对本发明及其具体实施方式作进一步详细说明。

实施例1

A.油相的制备,将猕猴桃籽油40份,肉豆蔻酸异丙酯4份,辛酸癸酸三甘油酯1份,Span-80 1份混合搅拌加热至70℃,使其充分熔化或溶解待用;

B.水相的制备,将水溶性原料L-乳酸5份,乳酸钠0.5份和Tween-80 4份加入去离子水43.4份,搅拌加热至100℃,保持20分钟灭菌,然后冷却至80℃待用;

C.乳化,将上述油相和水相原料分别过滤后(如离心机过滤),按先水后油的顺序加入乳化锅内,在温度70℃下进行搅拌,待油、水相原料充分混合均匀成乳浊液后,再加入防腐剂Germaben II 1份,搅拌均匀,即完成乳化操作;

 D.冷却,将上述乳化后物料冷却至60℃,加入香精0.1份,再搅拌5分钟,继续降温到35℃出料;

E.均质处理,出料后经超高压纳米均质机均质处理使物料粒径在200nm以下;

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