[发明专利]具有耐弯曲性的透明导电膜及其制备方法

说明书

技术领域

本发明涉及一种具有耐弯曲性的透明导电膜，更具体地，涉及为了确保透明导电膜的耐弯曲性，限定硬涂层的厚度的透明导电膜及其制备方法。

背景技术

目前使用于触摸屏面板产业的透明导电膜大部分以静电容量方式进行制备，通常主要考虑透明导电膜的电特性和光学特性。但是，为了实现未来将要使用的柔性显示器，所使用的所有组件应具备对于耐弯曲性的耐用性，透明导电膜也一样。

但是，目前为止几乎没有进行有关为了制备用于提高透明导电性的耐弯曲性的透明导电膜而使用的基材膜及硬涂层的结构的具体的研究。并且，日本专利公开公报第1998-114159号中虽记载了包括基材膜及硬涂层的透明导电膜的结构，但这只是为了确保透明导电膜的规定的硬度及耐用性，并没有记载用于确保耐弯曲性的任何结构，仍显露着对于弯曲呈现较大的电阻变化幅度的以往透明导电膜的问题。

发明内容

本发明要解决的技术问题

为了解决上述问题，本发明的一实例提供一种能够使用于柔性显示器的、耐弯曲性得到提高的透明导电膜。

技术方案

在本发明的一实例中，提供一种透明导电膜，上述透明导电膜包括：透明基材；硬涂层，形成于上述透明基材的双面；以及透明导电层，其形成于上述硬涂层上。

上述硬涂层的厚度可以是约2μm至约4μm。

上述硬涂层的厚度可以是约3μm至约4μm。

上述硬涂层的硬度可以是约1H至约2H。

在上述透明导电层的上述透明基材一侧的单面，还可包括1层以上的底涂层。

上述底涂层可包含硅氧化物。

上述透明导电膜的极限曲率半径可以是约1cm至约3cm。

在本发明的另一实例中，提供一种透明导电膜的制备方法，上述透明导电膜的制备方法包括如下步骤：在透明基材的双面形成硬涂层的步骤；以及在上述硬涂层上，通过溅射方法来形成透明导电层的步骤。

上述透明导电膜的制备方法可包括在上述透明导电层的上述透明基材一侧的单面，还形成1层以上的底涂层的步骤。

有益效果

本发明确保上述透明导电膜的优秀的耐弯曲性，能够作为柔性显示器用透明电极组件来使用。

并且，能够将上述透明导电膜的电阻变化差缩小到10％以内。

附图说明

图1是简要表示透明导电膜的结构的剖视图。

图2是简要表示包括底涂层的透明导电膜的结构的剖视图。

图3是简要表示透明导电膜的曲率半径的剖视图。

图4的(a)部分是表示透明导电膜的凸形弯曲(positive bending)的剖视图，图4的(b)部分是表示透明导电膜的凹形弯曲(negative bending)的剖视图。

图5是表示随着弯曲次数而改变的电阻变化差的实验结果的曲线图。

具体实施方式

以下，参照附图对本发明的实施例进行详细的说明，以使本发明所属技术领域的普遍技术人员能够容易地实施。本发明通过多种相互不同的方式加以体现，并不局限于在此说明的实施例。

为了能够明确说明本发明，省略了与本发明无关的部分，通过说明书全文对相同或类似的结构部件使用相同的附图标记。

图中为了明确表示多个层及区域，将厚度放大来显示。并且，图中为了便于说明，将部分层及区域的厚度放大来显示。当层、膜、区域及板等的部分位于其他部分的“上面”或“上”时，这不仅表示位于其他部分的“紧上面”，还包含其中间还有另一个其他部分。相反，当某一部分位于其他部分的“紧上面”时，则表示中间没有其他部分。

以下，对本发明进行详细的说明。

透明导电膜

本发明的一实例提供一种透明导电膜，该透明导电膜包括：透明基材；硬涂层，其形成于上述透明基材的双面；以及至少一个透明导电层，形成于上述硬涂层上。

参照图1，透明导电膜100自上而下包括透明导电层10、硬涂层20、透明基材30及硬涂层20。

为了制备以往透明导电膜，涂敷于基材膜上的硬涂层的各种厚度为约1μm至约30μm。但是，目前为止的硬涂层的厚度，没有考虑到透明导电膜的耐弯曲性特性，仅为了调整硬涂层的硬度而得到调节。