[发明专利]带防污膜的基体及其制造方法

说明书

技术领域

本发明涉及带防污膜的基体及其制造方法。

背景技术

智能手机和平板电脑等所用的触摸屏在使用时由于接触人的手指，所以容易附着指纹、皮脂、汗等的污物。而且，这些污物一旦附着则不容易脱落，此外，随着光的强弱等会比较明显，存在损害可见性和美观的问题。还指出在显示器玻璃、光学元件、卫生设备等中也存着同样的问题。

为了消除这样的问题，已知在这些部件和设备的与人手指接触的部分使用形成了由含氟有机硅化合物构成的防污膜的基板的方法。对于基板上所形成的防污膜，为了抑制污物附着，要其具备高拒水和拒油性，并且要求针对附着的污物的擦拭的耐磨损性。

作为同时实现形成有上述防污膜的基板的拒水和拒油性以及耐磨损性的尝试，例如，专利文献1中记载了下述方法：对基板的表面用含氩及氧的离子束进行处理，在形成凹部的上面形成保持其形状的基底层，在其上面进一步形成由含氟有机硅化合物构成的防污膜。

这里，专利文献1中，以在基板上形成凹部为目的，实施例公开了全都实施基于使用了氩和氧的混合气体的离子束照射的基板的表面处理，使耐磨损性提高的方案。但是，若采用专利文献1的方法，不能说充分满足实际使用中所要求的耐磨损性，要求耐磨损性进一步得到改善的防污膜。

现有技术文献

专利文献

专利文献1：日本专利特开2010-90454号公报

发明内容

发明所要解决的技术问题

本发明的目的是提供一种通过具有拒水性和拒油性等而使得防污性优异、并且相对于反复擦拭操作等可抑制防污性下降的耐磨损性优异的、具有含氟有机硅化合物被膜的带防污膜的基体及其制造方法。

解决技术问题所采用的技术方案

本发明的带防污膜的基体包括透明基体和含氟有机硅化合物被膜，其中所述透明基体的被成膜面至少暴露在含水分的气氛中；所述含氟有机硅化合物被膜是在该透明基体的被成膜面上通过干法而形成的。

本发明的带防污膜的基体的制造方法是在透明基体上形成有含氟有机硅化合物被膜的带防污膜的基体的制造方法，其中至少依次包括气氛处理工序和成膜工序。所述气氛处理工序是将透明基体的要被形成含氟有机硅化合物被膜的被成膜面至少暴露在含水分的气氛中的工序。所述成膜工序是在所述气氛处理工序后，在所述被成膜面上附着含有含氟水解性硅化合物的组合物并使其反应，以形成所述含氟有机硅化合物被膜的工序。

发明效果

根据本发明，能够提供一种通过具有拒水性和拒油性等而使得防污性优异、并且相对于反复擦拭操作等可抑制防污性下降的耐磨损性优异的、具有含氟有机硅化合物被膜的带防污膜的基体及其制造方法。

附图说明

图1是表示带防污膜的基体的一实施方式的剖面图。

图2是表示气氛处理中使用的加湿装置的一例的剖面示意图。

图3是表示等离子体处理装置(LIS)的一例的剖面示意图。

图4是表示成膜装置的一例的剖面示意图。

图5是表示成膜装置的其他例的剖面示意图。

图6是表示成膜装置的又一其他例的剖面示意图。

图7是表示摩擦耐久性(耐磨损性)试验的结果的图。

具体实施方式

以下，参照附图说明用于实施本发明的形态。本发明并不局限于下述的实施方式，在不超出本发明的范围内，可以对下述的实施方式进行各种变形和替换。

[带防污膜的基体]

带防污膜的基体包括透明基体和含氟有机硅化合物被膜，其中所述透明基体的被成膜面至少暴露在含水分的气氛中；所述含氟有机硅化合物被膜是在该透明基体的被成膜面上通过干法而形成的。以下，将含氟有机硅化合物被膜简记为被膜。

上述被膜是后述的含氟水解性硅化合物在透明基体的被成膜面上如下所述进行水解缩合反应而形成的，由于具有拒水性及拒油性而起到防污膜的作用。另外，本说明书中，含氟水解性硅化合物是指：具有在硅原子上结合有能水解的基团或原子的水解性甲硅烷基，并且具有结合在该硅原子上的含氟有机基团的化合物。另外，本说明书中，将结合在上述硅原子上并构成水解性甲硅烷基的能水解的基团或原子统称为“水解性基团”。