[发明专利]改变高分辨率导电图案的光学性质的方法

权利要求书

1.一种改变高分辨率导电图案的光学性质的方法，所述方法包括：

使用包含镀敷催化剂的油墨将第一微观图案印刷在基材的第一侧上；

使所述基材固化；

使用所述油墨印刷第二微观图案；

镀敷所述基材，其中镀敷所述基材包括无电镀敷，以在所述基材上形成高分辨率导电图案(HRCP)；

在所述基材上布置反应物以形成包含反应层的反应图案，其中所述反应层的厚度为25nm到5000nm；以及

冲洗所述基材。

2.权利要求1的方法，其中所述无电镀敷包括将所述基材的至少一部分布置在包含液态导电材料的镀敷槽中以形成高分辨率导电图案。

3.权利要求2的方法，其中所述导电材料是铜(Cu)、银(Ag)、金(Au)、镍(Ni)、锡(Sn)和钯(Pd)中的一种。

4.权利要求1的方法，其中所述HRCP包含多条线，并且其中所述多条线宽度中每条线的宽度为1微米到20微米。

5.权利要求1的方法，其中所述HRCP包含多条线，并且其中所述多条线中每条线的宽度为2微米到5微米。

6.权利要求1的方法，其中包含所述第一微观图案的基材是第一基材，其中将所述第二微观图案印刷在以下的一种上：与所述第一图案相邻的所述第一基材的第一侧、所述第一基材的第二侧或第二基材，其中所述第二基材与所述第一基材不同。

7.权利要求1的方法，其中所述基材是柔性聚合物、纸或玻璃中的一种。

8.权利要求1的方法，所述方法还包括将掩模布置在所述HRCP的至少一部分上以形成所述HRCP的掩蔽的部分和未掩蔽的部分，并在所述未掩蔽的部分上布置反应物以形成包含反应层的反应图案。

9.权利要求1的方法，其中所述反应物包含SeO₂、CuSO₄和磷酸。

10.权利要求9的方法，其中所述反应物包含1重量％到4重量％SeO₂、1.5重量％到3重量％CuSO₄和3重量％到7重量％磷酸。

11.权利要求1的方法，其中布置所述反应物包括将所述基材浸没在反应物槽中。

12.权利要求9的方法，其中用二甲亚砜去除所述反应物。

13.权利要求9的方法，其中冲洗所述基材包括在异丙醇和去离子水之一中冲洗所述基材。

14.权利要求1的方法，其中所述反应物包含HNO₃、SeO₂和CuSO₄。

15.权利要求14的方法，其中所述反应物包含7％到15％硝酸(HNO₃)、0.5％到3％二氧化硒(SeO₂)和3％到10％硫酸铜(CuSO₄)。

16.权利要求14的方法，所述方法还包括使用二甲亚砜从所述基材去除所述反应物。

17.权利要求13的方法，其中布置所述掩模、布置所述反应物由喷雾台或旋涂台中的一种进行。

18.权利要求1的方法，所述方法还包括去除所述反应物，其中去除所述反应物由喷雾台或旋涂台中的一种进行。

19.权利要求1的方法，其中所述反应物是在5℃下在水性碱性介质中的三乙醇胺硒代硫酸钠(Na₂SeSO₃)，并且其中冲洗所述基材包括使用浸没冲洗和去离子水冲洗所述基材。

20.权利要求1的方法，其中所述反应物是硫化钾和乙醇的溶液，并且其中冲洗所述基材包括使用浸没冲洗和乙醇冲洗所述基材。