[发明专利]HIPIMS层

说明书

本发明涉及硬质材料层，其借助由气相的物理涂覆（PVD=物理气相沉积），即磁控管辅助喷雾（MS=磁控管溅射）沉积到工件上。

磁控管溅射的两个主要的方法变型是传统的DC-MS和HIPIMS方法。

在HIPIMS方法中，对提供喷雾材料的靶施加非常高的放电电流密度，从而在等离子体中产生高的电子密度，并且使雾化的颗粒高度离子化。其中使用250-2000W/cm2的功率密度，并因此对提供该功率的发电机提出特别的要求。特别地，不可以长时间地对靶施加这样的功率，因为这样产生过热并由此造成损害。因此，所述功率必须是脉冲式的。在功率脉冲期间内，产生非常高的所需放电密度，所述靶加热，并在脉冲间歇期间可以再次冷却所述靶。必须相继地如此调节脉冲时间和脉冲间歇，从而使施加在钯上的平均功率没有超过极限值。对于HIPIMS，因此需要能够脉冲式地提供非常高的功率的发电机。

在大多数情况下，对于HIPIMS需要使用基于电容器放电原理的特殊发电机，这产生了在脉冲期间变化的放电电流。以这种方式无法实现涉及电流-电压关系的可控方法。根据另一方案，首先预离子化等离子体，以便然后可以在高的功率脉冲的范围内延长脉冲时间。其中放电电流通过调节施加的电压来控制。这样可以确切保持脉冲最大4ms。

如果使用低的功率密度进行喷雾，例如5-25W/cm2的功率密度，则情况完全不同。在这种情况下，靶可以长时间地加载功率。可以使用简单的发电机，因为不必提供高的功率，也不必脉冲式地提供功率。在这种情况下可以考虑传统的DC-MS。

如果比较HIPIMS层和DC-MS层，则会发现更大的结构区别。例如TiAlN涂层，在DC-MS情况下其基本上是在柱状结构中生长（参见图1）。与此相反，在HIPIMS方法中，不用在层中嵌入工作气体离子而基本上可以通过蒸发金属的离子化而实现精细的层结构；然后在基材上施加负偏压的情况下，离子化的金属原子自己可以被加速到该基材上。有利地，对于HIPIMS层，由于在喷雾材料中的高的离子含量，负的基材偏压可以使层更好地致密化。

尽管精细的HIPIMS层比起粗柱状的DC-MS层更硬和更致密，但其具有在层粘附性和机械性能方面的缺点。相比于DC-MS层，精细的HIPIMS层展现了改善的耐磨行为，这产生了更长的使用寿命。但缺点在于，没法预测何时耗尽（即层的使用寿命的结束），而是可能由于机械性能而非常突然地出现耗尽，例如以剥落的形式。使用者因此很难预测何时需要更换涂覆的工具。

因此，本发明的目的在于，公开具有对于HIPIMS技术典型硬度的层，在使用中例如通过随着时间而降低的加工效率让使用者知道所述层的耗尽，从而可以及时地更换相应的工具。

如上所述，目前已知可以实现最大4ms的脉冲时间的HIPIMS发电机。基于一种提供高功率的脉冲的新方法，如今可以容易地实现25ms或更高的脉冲时间。

在本方法中，使用包括第一分负极和第二分负极的PVD喷雾负极，其中对于分负极规定了最大的平均功率加载，和其中规定了功率脉冲间隔的时间，所述方法包括下列步骤：

a) 提供具有规定的优选至少在开启之后和在功率构造间隔过程之后恒定的功率输出的发电机；

b) 开启所述发电机；

c) 将第一分负极连接到所述发电机，从而使该第一分负极加载发电机的功率；

d) 在规定的相应于第一分负极的第一功率脉冲间隔过程之后将发电机与第一分负极分开；

e) 将第二分负极连接到所述发电机，从而使该第二分负极加载发电机的功率；

f) 在规定的相应于第二分负极的第二功率脉冲间隔过程之后将发电机与第二分负极分开；

其中所述第一功率脉冲间隔在时间上在所述第二功率脉冲间隔之前开始，和所述第一功率脉冲间隔在时间上在所述第二功率脉冲间隔之前结束，并且其中实施步骤d)和e)而使第一功率脉冲间隔和第二功率脉冲间隔在时间上重叠，和所有的功率脉冲间隔共同形成了第一组，从而从第一功率脉冲间隔的开始至第二功率脉冲间隔的结束连续无中断地保持发电机的功率输出，并且不产生第二功率构造间隔。

在使用本方法时，令人惊奇地发现，使用5ms或更长的脉冲时间涂覆有HIPIMS层的工具在涂覆工具的使用寿命快结束时展现出与使用较短的脉冲时间涂覆有HIPIMS层的工具相比明显不同的行为。令人感兴趣地，如在图3中明显可见的，使用长的脉冲施加的层的断裂边缘的SEM图展现出更粗糙的形态。其中这种层形态上的区别完全可以通过脉冲长度的变化实现，而不用改变其它影响参数。