[发明专利]溅射靶材及其制造方法有效
| 申请号： | 201280054163.7 | 申请日： | 2012-04-10 |
| 公开（公告）号： | CN103917688A | 公开（公告）日： | 2014-07-09 |
| 发明（设计）人： | 冈本研;荒堀忠久;佐藤彰繁;宮下幸夫;草野英二;坂本宗明 | 申请（专利权）人： | 飞罗得陶瓷股份有限公司 |
| 主分类号： | C23C14/34 | 分类号： | C23C14/34;C04B35/111;G11B5/31;G11B5/84;G11B7/26 |
| 代理公司： | 北京林达刘知识产权代理事务所(普通合伙) 11277 | 代理人： | 刘新宇;李茂家 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 日本;JP |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 溅射 及其 制造 方法 | ||
【权利要求书】：
1.一种溅射靶材，其特征在于，使用了以质量％计纯度为99.99％以上、相对密度为98％以上、且平均晶粒直径不足5μm的氧化铝烧结体。
2.一种溅射靶材，其特征在于，使用了以质量％计纯度为99.999％以上、且相对密度为98％以上的氧化铝烧结体。
3.根据权利要求2所述的溅射靶材，其特征在于，平均晶粒直径不足5μm。
4.根据权利要求1～3中任一项所述的溅射靶材，其特征在于，相对密度为99％以上。
5.根据权利要求1～3中任一项所述的溅射靶材，其特征在于，平均晶粒直径不足2μm。
6.根据权利要求4所述的溅射靶材，其特征在于，平均晶粒直径不足2μm。
7.一种使用了以质量％计纯度为99.99％以上的氧化铝烧结体的溅射靶材的制造方法，其特征在于，实施1250～1350℃下的热压烧结得到烧结体后，在大气中实施1300～1700℃的退火处理。
8.一种溅射靶材，其特征在于，其是通过权利要求6所述的制造方法得到的。
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