[发明专利]用于选择性反射来自太阳光波长谱的电磁辐射的多层体系及其制造方法

权利要求书

1. 用于选择性反射来自太阳光波长谱的电磁辐射的多层体系，其在柔性聚合物基材上由至少一个银层或银合金层形成，所述层在两个表面上分别完全涂布有种子层和覆盖层，其中该种子层和覆盖层由介电材料形成，其特征在于所述种子层(3)和所述覆盖层(5)由ZnO和/或ZnO:X形成。

2. 权利要求1的多层体系，其特征在于X选自Al₂O₃、Ga₂O₃、SnO₂、In₂O₃或MgO，并且存在的比例为最大20质量%。

3. 前述权利要求之一的多层体系，其特征在于所述种子层(3)和/或所述覆盖层(5)的层厚度在5 nm-15 nm的范围，并且所述银层(4)的层厚度在5 nm-25 nm之间。

4. 前述权利要求之一的多层体系，其特征在于由优选In₂O₃的介电材料构成的层在覆盖层(5)和种子层(3)之间形成，其中该覆盖层(5)在银层(4)上形成，而该种子层(3)在另一银层(4)之下形成。

5. 前述权利要求之一的多层体系，其特征在于以叠置的方式形成至少两个、优选三个多层体系，其各自在基材(1)上具有银层(4)。

6. 前述权利要求之一的多层体系，其特征在于介电层(2)在基材(1)和多层体系之间形成，该介电层(2)的层厚度为20 nm-50 nm范围。

7. 前述权利要求之一的多层体系，其特征在于在各具有银层(4)的多层体系之间，形成层厚度在40 nm-150 nm范围的介电层(6)，和/或在背离基材(1)的外表面上形成层厚度在20 nm-70 nm范围的另一介电层(6)。

8. 用于制备前述权利要求之一的多层体系的方法，其特征在于在真空涂布工艺中，特别是磁控管溅射中，将靶用于所述种子层(3)、银层(4)和覆盖层(5)的形成，所述层在基材(1)的供料轴方向上连续布置，并且其中由相同材料形成用于形成所述种子层(3)和覆盖层(5)的靶。

9. 权利要求8的方法，其特征在于用于形成所述种子层(3)和覆盖层(5)的气体混合物配合用于种子层(3)和覆盖层(5)的相应层形成。

10. 权利要求9的方法，其特征在于在用于形成所述覆盖层(5)的气体混合物中维持比在形成所述种子层(3)时更低比例的氧气和更高比例的氢气。

11. 权利要求8-10之一的方法，其特征在于在从卷对卷的涂布过程中卷绕所述基材，从而根据基材的供料方向交替变换地分别用一种靶一次性地形成种子层(3)，并且在相反的供料方向时形成覆盖层(5)。