[发明专利]提供改善的耐划伤性的抗反射涂层组合物、使用该组合物的抗反射膜及其制造方法

说明书

技术领域

本发明涉及提供改善的耐划伤性的抗反射涂层组合物、使用该组合物制造抗反射膜的方法以及由此制造的抗反射膜。

背景技术

通常，为了使外部光线的反射最小化，将抗反射膜配置在平板显示设备（如PDP、LCD等）上。

常用的抗反射膜具有硬涂层、高折射率层和低折射率层的三层结构，该三层结构的厚度为1μm或小于1μm，其层叠在透光基底膜上。为了简化制备过程，层叠在基底膜上的高折射率层和低折射率层的两层结构也已商品化。

这些抗反射膜通过干法或湿法制造。

在这两种方法中，干法是通过沉积或溅射在基底膜上层叠低折射率材料（例如，MgF₂、SiO₂等）作为薄膜或交替层叠高折射率材料（例如，ITO（锡掺杂的氧化铟）、ATO（锡掺杂的氧化锑）、ZnO、TiO₂等）和低折射率材料的方法。所述干法的优点是制造的抗反射膜在膜界面处具有优异的结合力，但该方法需要高的制造成本，限制了其商业应用。

同时，湿法是将含有聚合物树脂、有机溶剂等的涂层组合物施用于基底膜之后干燥并固化所述涂层组合物的方法。该方法与干法相比成本更低，因此广泛用于商业应用中。

然而，在湿法中，包含于抗反射膜中的硬涂层、高折射率层和低折射率层的形成过程应分别进行。因此，制造方法变得复杂，并且在膜界面处提供的结合力较弱。

为此，已积极做出许多研究以开发能够通过单一湿法涂布过程而形成两层或更多层的抗反射涂层组合物。

然而，仍存在许多问题：在制造过程中，无法在施用组合物时适当地出现相分离，因而使各层的功能劣化，或使位于膜表面的低折射率层的耐划伤性劣化。

发明内容

技术问题

因此，本发明涉及能够提供改善的耐划伤性的抗反射涂层组合物，同时通过单一涂布过程形成一个或多个层。

此外，本发明提供使用所述组合物以更简单的方式制造抗反射膜的方法。

此外，本发明提供通过使用所述组合物而制造的抗反射膜。

技术方案

根据本发明的一个实施方案，提供一种抗反射涂层组合物，其包含：

（甲基）丙烯酸酯基化合物；中空颗粒；具有第一分子量的引发剂；具有比第一分子量高的第二分子量的引发剂；和溶剂。

在本文中，所述第一分子量可以为小于420，并且所述第二分子量可以为420至1000。

所述抗反射涂层组合物可包含5至50重量份的所述中空颗粒、1至30重量份的所述具有第一分子量的引发剂、1至20重量份的所述具有第二分子量的引发剂和100至500重量份的所述溶剂，以上基于100重量份的所述（甲基）丙烯酸酯基化合物计。

所述（甲基）丙烯酸酯基化合物可以包含具有2至10个官能团的多官能（甲基）丙烯酸酯基化合物和具有含氟取代基的（甲基）丙烯酸酯基化合物。例如，所述（甲基）丙烯酸酯基化合物可以包含重量比为1:10至1:300的所述具有含氟取代基的（甲基）丙烯酸酯基化合物和所述具有2至10个官能团的多官能（甲基）丙烯酸酯基化合物。

关于此，所述具有含氟取代基的（甲基）丙烯酸酯基化合物和所述多官能（甲基）丙烯酸酯基化合物可以具有5mN/m或更高的表面能差。

同时，包含于该组合物中的所述中空颗粒可具有1至200nm的数均直径。

此外，所述中空颗粒可以是中空二氧化硅颗粒。

此外，包含于所述组合物中的所述溶剂可以具有20至30的介电常数（25℃）和1.7至2.8的偶极矩。

所述组合物还可包含数均直径为1至50nm的无机纳米颗粒。

同时，根据本发明的另一个实施方案，提供了一种用于制造抗反射膜的方法，包括以下步骤：制备上述抗反射涂层组合物；将所述组合物施用于基底膜的至少一个表面上；干燥所施用的组合物；以及固化已干燥的组合物层。

在所述制造方法中，施用于基底膜的组合物可以自发地相分离成含有所述具有第一分子量的引发剂的第一层；和含有所述中空颗粒和所述具有第二分子量的引发剂的第二层，其中这些层在基底膜上依次形成。

此外，所述组合物的干燥过程可以在5至150℃的温度下进行0.1至60分钟。

此外，所述组合物的固化过程可在0.1至2J/cm²的UV辐射剂量下进行1至600秒。

同时，根据本发明的另一实施方案，提供了一种抗反射膜，包含