[发明专利]提供改善的耐划伤性的抗反射涂层组合物、使用该组合物的抗反射膜及其制造方法

权利要求书

1.抗反射涂层组合物，包含：

（甲基）丙烯酸酯基化合物；

中空颗粒；

具有第一分子量的引发剂；

具有比第一分子量高的第二分子量的引发剂；和

溶剂。

2.权利要求1的抗反射涂层组合物，其中第一分子量小于420，并且第二分子量为420至1000。

3.权利要求1的抗反射涂层组合物，包含5至50重量份的所述中空颗粒、1至30重量份的所述具有第一分子量的引发剂、1至20重量份的所述具有第二分子量的引发剂和100至500重量份的所述溶剂，以上基于100重量份的所述（甲基）丙烯酸酯基化合物计。

4.权利要求1的抗反射涂层组合物，其中所述（甲基）丙烯酸酯基化合物包含具有2至10个官能团的多官能（甲基）丙烯酸酯基化合物和具有含氟取代基的（甲基）丙烯酸酯基化合物。

5.权利要求4的抗反射涂层组合物，其中所述（甲基）丙烯酸酯基化合物包含重量比为1：10至1：300的所述具有含氟取代基的（甲基）丙烯酸酯基化合物和所述具有2至10个官能团的多官能（甲基）丙烯酸酯基化合物。

6.权利要求4的抗反射涂层组合物，其中所述具有含氟取代基的（甲基）丙烯酸酯基化合物和所述多官能（甲基）丙烯酸酯基化合物具有5mN/m或更高的表面能差。

7.权利要求4的抗反射涂层组合物，其中所述多官能（甲基）丙烯酸酯基化合物为选自下列中的一种或多种化合物：六丙烯酸二季戊四醇酯、三丙烯酸季戊四醇酯、四丙烯酸季戊四醇酯、三亚甲基丙烷三丙烯酸酯、二丙烯酸乙二醇酯、9,9-双（4-(2-丙烯酰氧基乙氧基)苯基）芴和双（4-甲基丙烯酰氧基苯硫基）硫醚。

8.权利要求4的抗反射涂层组合物，其中所述具有含氟取代基的（甲基）丙烯酸酯基化合物是选自以下化学式1至5的化合物中的一种或多种化合物：

[化学式1]

其中R¹是氢基团或具有1至6个碳原子的烷基基团，a是0至7的整数，且b是1至3的整数；

[化学式2]

其中c是1至10的整数；

[化学式3]

其中d是1至11的整数；

[化学式4]

其中e是1至5的整数；

[化学式5]

其中f是4至10的整数。

9.权利要求1的抗反射涂层组合物，其中所述中空颗粒具有1至200nm的数均直径。

10.权利要求1的抗反射涂层组合物，其中所述中空颗粒是中空二氧化硅颗粒。

11.权利要求1的抗反射涂层组合物，其中所述溶剂具有20至30的介电常数（25℃）和1.7至2.8的偶极矩。

12.权利要求1的抗反射涂层组合物，其中所述溶剂是选自下列中的一种或多种：甲基乙基酮、乙酸乙酯、乙酰丙酮、异丁基酮、甲醇、乙醇、正丁醇、异丁醇和叔丁醇。

13.权利要求1的抗反射涂层组合物，还包含数均直径为1至50nm的无机纳米颗粒。

14.用于制造抗反射膜的方法，包括以下步骤：

制备权利要求1的抗反射涂层组合物；

将所述组合物施用到基底膜的至少一个表面上；

干燥所施用的组合物；以及

固化已干燥的组合物层。

15.权利要求14的用于制造抗反射膜的方法，其中施用于基底膜的组合物自发地相分离成含有所述具有第一分子量的引发剂的第一层以及含有所述中空颗粒和所述具有第二分子量的引发剂的第二层，这些层在基底膜上依次形成。

16.权利要求14的用于制造抗反射膜的方法，其中所述组合物的干燥过程在5至150℃的温度下进行0.1至60分钟。

17.权利要求14的用于制造抗反射膜的方法，其中所述组合物的固化过程在0.1至2J/cm²的UV辐射剂量下进行1至600秒。