[发明专利]具有对准调整装置的光学系统无效
| 申请号: | 201280046379.9 | 申请日: | 2012-09-26 |
| 公开(公告)号: | CN103827716A | 公开(公告)日: | 2014-05-28 |
| 发明(设计)人: | G·亚布雷 | 申请(专利权)人: | FCI公司 |
| 主分类号: | G02B6/42 | 分类号: | G02B6/42;G02B6/43 |
| 代理公司: | 永新专利商标代理有限公司 72002 | 代理人: | 王琼 |
| 地址: | 法国吉*** | 国省代码: | 法国;FR |
| 权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索关键词: | 具有 对准 调整 装置 光学系统 | ||
技术领域
本发明涉及一种光学系统。
背景技术
多数通信系统具有许多系统卡片。这种卡片常常制造为所谓印制电路板(PCBs)。
因为例如因特网对数据速率的要求日益提高,这些要求达到了使用电进行通信的极限。因而变得在电线上难以保证良好的信号完整性。
为了响应这种带宽要求,现在建成的高速系统用光学层(光学纤维或者平面型导波器)代替导电金属。确实,光不受到与电相同的限制。
光耦合器件常常用于使内卡用途(intra-card application)中PCB的两个光学层相互连接或者使内卡用途中外侧系统卡片的光学器件与母板的光学层相互连接。
然而,PCB的制造容差总是不能得到良好的控制,它可能达到±10%的值,因而引起对准问题,进而导致光耦合不充分,甚至不产生光耦合。
发明内容
本发明的目的是提供一种具有最优的光耦合的光学系统。
为此目的,本发明提供了一种根据权利要求1所述的光学系统。
利用这些特征,所述反射装置的位置能够进行调整以补偿因所述光学电路板的制造容差所引起的不对准,进而提高本发明的光学系统的光耦合有效性。
在本发明的一些实施例中可能还使用了权利要求中所限定的特征中的一个或多个特征。
附图说明
本发明实施方式中的下面几个实例的说明及附图将使本发明的其它特点和优点变得非常明显,其中本发明实施方式中的这几个实例是作为非限制性实例提供的。在附图中:
图1是根据本发明第一实施例的光学系统的横截面图;
图2是根据本发明第二实施例的光学系统的横截面图;
图3是根据本发明第三实施例的光学系统的横截面图;
图4是根据本发明第四实施例的光学系统的横截面图;和
图5是根据本发明第五实施例的光学系统的横截面图。
在不同的视图中,相同的附图标记表示相同或相似的元件。
具体实施方式
图1示出了根据本发明第一实施例的光学系统10。
光学系统10包括光学电路板12、配合光学器件14和光耦合系统15,光耦合系统15包括光耦合器件16、反射装置18和对准调整装置20。
光学电路板12是底板PCB,可以是混合或全光学PDB。
PCB12是一个层状堆叠,包括五个叠加的层:顶部参考层22、位于顶部参考层22下方的顶部绝缘层24、位于顶部绝缘层24下方的光学导波器层26、位于光学导波器层26下方的底部参考层28和位于底部参考层28下方的底部绝缘层30。
在本说明书中使用的方向和位置术语是参考竖向方向Z给出的,竖向方向Z垂直于PCB12的不同层,并且指向将要光耦合到PCB12的配合光学器件14。
PCB12的每个层都平行于XY平面进行延伸,X对应光在光学导波器层26中的传播方向和Y对应横向方向。
顶部和底部参考层22、28例如是用铜制成的。
光学导波器层26包括多个光学导波器32,其中多个光学导波器32沿着方向X彼此平行地延伸。
这些光学导波器32沿Y方向彼此间隔一定距离,这个距离不是常数,根据需要确定它的大小。例如,这个距离可设定为常数250μm。
每个光学导波器32包括芯部34,芯部34由覆层36围绕,其中覆层36的折射率小于芯部34的折射率。
光学导波器32可以是聚合物导波器、玻璃片导波器或者利用嵌入纤维技术得到的导波器等等。
切断38形成在PCB12中。
切断38由切断38侧面上的直壁40界定,光学导波器32在切断38的该侧面上延伸。
直壁40在平行于YZ平面且垂直于由顶部参考层22的顶表面形成的PCB12的顶表面42的平面中延伸。
切断38还由第一水平壁44界定,其中第一水平壁44位于与直壁40相对的切断38侧面上。
第一水平壁44在平行于XY平面的平面中延伸,并且由底部参考层28的顶表面的一部分形成。
切断38还由位于切断38的两侧面上的第二水平壁46界定。
第二水平壁46在平行于XY平面的平面中延伸,并且形成在底部绝缘层30中。
直壁40形成PCB12的光学界面。
精确地讲,光学导波器32的所有芯部34都放入到切断38中以界定PCB12的光学界面40。
光学界面40包括由芯部34的开口形成的多个光透射区域48。
光学界面40因而包括一行光透射区域48。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于FCI公司,未经FCI公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201280046379.9/2.html,转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇:硼掺杂石墨烯复合材料及其制备方法
- 下一篇:一种浓硫酸稀释装置的设计





