[发明专利]创建并利用用于持续的同步多维控制的“多元路径”实现电磁辐射源中的单模扫描操作的系统和方法

权利要求书

1.一种扫描电磁辐射源（14）的方法，用以在指定时域内产生具有连续波长范围内的最佳边模抑制比的单模操作，所述电磁辐射源用于基于参数输出处于给定波长的电磁辐射，该方法包括：

确定满足波长的期望集的条件和所述波长范围内的最大边模抑制比的参数组合的集合，其中，所述参数限定多元空间，每个参数组合包括所述多元空间中的一个点，所述参数组合的集合限定用于从一个波长到另一个波长的转变的子路径，且所选的子路径的组合提供用于在所述波长范围内的转变的多元路径；以及

控制所述电磁辐射源通过以预期的方式遍历所述多元路径而发射在所述波长范围内的电磁辐射，其中，所述预期的方式是，作为扫描的时间函数或扫描的其它索引参数的函数而线性地增大或减小波长或光频率，并且所述电磁辐射源在具有所述波长范围内的最佳边模抑制比的单一模式下输出所述电磁辐射。

2.如权利要求1所述的方法，其中，所述多元路径包括穿过所述多元空间的不连续路径。

3.如权利要求1至2中任一项所述的方法，其中，通过针对参数组合测量所述电磁辐射源的输出，来针对该参数组合确定波长和边模抑制比。

4.如权利要求3所述的方法，其中，对于被标识成所述多元路径的子路径的参数组合，测量针对先前未测量的参数组合的波长和边模抑制比。

5.如权利要求4所述的方法，其中，测量所述先前未测量的参数组合，以找出用于连接未连接的所选的子路径的子路径。

6.如权利要求1至5中任一项所述的方法，还包括：针对参数组合的列表生成所述多元空间，其中，通过测量对应于所述列表中的每个参数组合的所述电磁辐射源的输出，来确定该参数组合的波长和边模抑制比，并进而生成所述多元空间。

7.如权利要求6所述的方法，其中，所述参数组合的列表是默认列表或由用户提供。

8.如权利要求1至7中任一项所述的方法，其中，基于子路径的边模抑制比的平均值、子路径的边模抑制比的最大值或其组合来选择所述多元路径的子路径。

9.如权利要求1至8中任一项所述的方法，其中，所述参数包括正面镜像电流、背面镜像电流、相电流、增益、半导体光放大器电流、温度、湿度或其组合。

10.如权利要求1至9中任一项所述的方法，其中，将要选择的用于组合成所述多元路径的每个子路径必须满足波长范围大于范围阈值的条件。

11.如权利要求1至10中任一项所述的方法，其中，所述电磁辐射源是半导体激光器。

12.如权利要求1至11中任一项所述的方法，其中，扫描波长或光频率的所述预期的方式消除或补偿暴露于所述辐射源的介质的光色散。

13.一种扫描电磁辐射源（14）的系统（10），用以在指定时域内产生具有连续波长范围内的最佳边模抑制比的单模操作，该系统包括：

所述电磁辐射源，用于输出波长范围内的电磁辐射，其中，所述辐射源基于参数输出处于一波长的电磁辐射；

控制器（12），所述控制器被连接到所述电磁辐射源，其中，所述控制器用于：

提供参数给所述电磁辐射源；

确定满足所述波长范围内的波长的期望集的条件和波长的集合内的最大边模抑制比的参数组合的集合，其中，所述参数限定多元空间，每个参数组合包括所述多元空间中的一个点，所述参数组合的集合限定用于从一个波长到另一个波长的转变的子路径，且所选的子路径的组合提供用于在所述波长范围内的转变的多元路径；以及

控制所述电磁辐射源通过以预期的方式遍历所述多元路径而发射在所述波长范围内的电磁辐射，其中，所述预期的方式是，作为扫描的时间函数或扫描的其它索引参数的函数而线性地增大或减小波长或光频率，并且所述电磁辐射源在具有所述波长范围内的最佳边模抑制比的单一模式下输出所述电磁辐射。

14.如权利要求13所述的系统，所述控制器还用于生成所述多元空间，包括：

向所述电磁辐射源提供参数组合；

测量所述电磁辐射源的输出的波长和边模抑制比；以及

将测量到的波长和边模抑制比在所述多元空间中的由该参数组合所指定的点处并入所述多元空间。

15.如权利要求13至14中任一项所述的系统，其中，所述参数的一部分不由所述控制器提供。