[发明专利]溅射用钛靶有效
| 申请号： | 201280021334.6 | 申请日： | 2012-02-03 |
| 公开（公告）号： | CN103732789A | 公开（公告）日： | 2014-04-16 |
| 发明（设计）人： | 牧野修仁;冈部岳夫;塚本志郎 | 申请（专利权）人： | 吉坤日矿日石金属株式会社 |
| 主分类号： | C23C14/34 | 分类号： | C23C14/34;C22C14/00 |
| 代理公司： | 中原信达知识产权代理有限责任公司 11219 | 代理人： | 王海川;穆德骏 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 日本;JP |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 溅射 用钛靶 | ||
【权利要求书】：
1.一种溅射用钛靶，其为高纯度钛靶，其特征在于，含有总计为3～100质量ppm的选自Al、Si、S、Cl、Cr、Fe、Ni、As、Zr、Sn、Sb、B、La中的一种以上元素作为添加成分，除添加成分和气体成分以外，靶的纯度为99.99质量%以上。
2.如权利要求1所述的溅射用钛靶，其特征在于，除添加成分和气体成分以外的纯度为99.995质量%以上。
3.如权利要求1所述的溅射用钛靶，其特征在于，除添加成分和气体成分以外的纯度为99.999质量%以上。
4.如权利要求1～3中任一项所述的溅射用钛靶，其特征在于，靶的平均晶粒直径为30μm以下。
5.如权利要求1～4中任一项所述的溅射用钛靶，其特征在于，进行溅射之前的靶的平均晶粒直径为30μm以下，开始溅射之后的平均晶粒直径为70μm以下。
6.如权利要求1～4中任一项所述的溅射用钛靶，其特征在于，将钛靶加热到500℃时靶的0.2%屈服强度为36N/mm2以上。
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