[实用新型]电容式触控单元

权利要求书

1.一种电容式触控单元，其特征在于，包含: 

一透明基板，具有一第一侧及一第二侧; 

一高分子透明基板，具有一第三侧及一第四侧; 

一触控区，设置于前述透明基板及该高分子透明基板中央处; 

一非触控区，对应设置于前述触控区周侧; 

一遮蔽物，设于前述第二侧的非触控区; 

一第一导电层，披覆于该第二侧的触控区，并部分延伸至该第二侧的非触控区; 

一第二导电层，设于前述高分子透明基板的第三侧的触控区，并部分延伸至该非触控区; 

一第一导线层，设于该遮蔽物相反该第二侧的一侧; 

一第二导线层，设于该高分子透明基板的第三侧，与前述第二导电层比邻; 

一软性基板，设于该非触控区，该软性基板两侧分别具有一第一导电胶及一第二导电胶，并通过该第一、二导电胶分别与该第一、二导线层电性连接; 

一胶体层，设于前述透明基板及该高分子透明基板之间。 

2.如权利要求1所述的电容式触控单元，其特征在于，所述透明基板为一玻璃基板及一高分子透明基板其中任一。 

3.如权利要求1所述的电容式触控单元，其特征在于，所述高分子透明基板选择为聚乙烯对苯二甲酸酯、聚碳酸酯、聚乙烯、聚氯乙烯、聚丙烯、聚苯乙烯、聚甲基丙烯酸甲酯及环烯烃共聚物其中任一材质。 

4.如权利要求1所述的电容式触控单元，其特征在于，所述胶体层选择为光学胶脂及光学胶其中任一。 

5.如权利要求1所述的电容式触控单元，其特征在于，所述第一、二导电层为一透明导电层，该透明导电层为以涂布凝胶、电镀、蒸镀或溅镀其中任一的方式所形成的薄膜结构，并该薄膜结构为铟锡氧化物ITO、铟锌氧化 物IZO及氧化锑锡氧化物ATO其中任一。 

6.一种电容式触控单元，其特征在于，包含: 

一透明基板，具有一第一侧及一第二侧; 

一高分子透明基板，具有一第三侧及一第四侧; 

一触控区，设置于前述透明基板及该高分子透明基板中央处; 

一非触控区，对应设置于前述触控区周侧; 

一遮蔽物，设于前述第二侧的非触控区; 

一第一导电层，披覆于该第二侧的触控区，并部分延伸至该第二侧的非触控区; 

一第二导电层，设于前述高分子透明基板的第四侧的触控区，并部分延伸至该非触控区; 

一第一导线层，设于该遮蔽物相反该第二侧的一侧; 

一第二导线层，设于该高分子透明基板的第四侧，与前述第二导电层比邻; 

一软性基板，设于该非触控区，该软性基板两侧分别具有一第一导电胶及一第二导电胶，并通过该第一、二导电胶分别与该第一、二导线层电性连接; 

一胶体层，设于前述透明基板及该高分子透明基板之间。 

7.如权利要求6所述的电容式触控单元，其特征在于，所述透明基板为一玻璃基板及一高分子透明基板其中任一。 

8.如权利要求6所述的电容式触控单元，其特征在于，所述高分子透明基板选择为聚乙烯对苯二甲酸酯、聚碳酸酯、聚乙烯、聚氯乙烯、聚丙烯、聚苯乙烯、聚甲基丙烯酸甲酯及环烯烃共聚物其中任一材质。 

9.如权利要求6所述的电容式触控单元，其特征在于，所述胶体层选择为光学胶脂及光学胶其中任一。 

10.如权利要求6所述的电容式触控单元，其特征在于，所述第一、二导电层为一透明导电层，该透明导电层为以涂布凝胶、电镀、蒸镀或溅镀其中任一的方式所形成的薄膜结构，并该薄膜结构为铟锡氧化物ITO、铟锌氧化物IZO及氧化锑锡氧化物ATO其中任一。 

11.如权利要求6所述的电容式触控单元，其特征在于，还具有一保护层，所述保护层覆盖前述软性基板的一端及该第二导电层的一侧，以及该第二导线层一侧。