[实用新型]电容触摸屏

说明书

技术领域

本实用新型属于触摸屏领域，尤其涉及一种电容触摸屏。

背景技术

当前的电容式触摸屏结构主要分为三种，Glass-Glass结构，film-Glass结构和结构。目前市场上的触摸屏主要是分为两部分，Cover Lens盖板和Sensor传感器，先对Sensor玻璃进行图形化处理，再与Cover Lens贴合在一起，就构成了常见的电容触摸屏。该制作方法工序繁多，工艺复杂，且效率低下，成本较高。结构是单片玻璃方案，将Cover lens和Sensor都集成在一块玻璃上，使用同一块玻璃即可形成触摸屏，此方法减少了目前触摸屏的生产工序，保证了质量和降低成本。这种结构是当前各公司的主要研究方案。但是，目前的产品主要是以ITO作为导电膜，由于铟的储量和价格因素，以及平板显示器件的大量需求，成本一直是各大厂家关心的问题。

实用新型内容

有鉴于此，本实用新型提供一种电容触摸屏，解决现有技术中电容屏成本高、效率低的问题。

本实用新型是这样实现的，

一种电容触摸屏，包括相层叠的玻璃基底、石墨烯膜层及玻璃盖层，该石墨烯膜层形成于该玻璃基底之上，该玻璃盖层形成于该石墨烯膜层之上。

进一步，该石墨烯膜层的厚度为0.335-1.34nm。

进一步，该玻璃基底的厚度为0.2-2mm。

进一步，该玻璃盖层的厚度为0.5-1.1mm。

本实用新型的电容触摸屏，由玻璃基底和石墨烯膜层组成，结构简单，由于使用石墨烯作为电容屏的组件，实现该触摸屏触摸效果良好。

附图说明

图1是本实用新型实施例的电容触摸屏的纵截面图；

图2显示本实用新型电容触摸屏的俯视图。

具体实施方式

为了使本实用新型的目的、技术方案及优点更加清楚明白，以下结合附图及实施例，对本实用新型进行进一步详细说明。应当理解，此处所描述的具体实施例仅仅用以解释本实用新型，并不用于限定本实用新型。

本实用新型电容触摸屏的导电材料为石墨烯，替代伟统的ITO作为导电膜，再经过刻蚀形成图案。由于石墨烯具有二维晶体结构，可以看成是单原子层的石墨，在室温下也具有高达20万cm2/vs的载流子迁移率，在目前可以制作的膜层材料中，石墨烯的厚度最薄，比表面积也较大。另外，石墨烯具有超过金刚石的强度、弹性模量和导热率，即使是单层石墨烯，也不会通过大于氦原子的物质。上述石墨烯的性质，使得本实用新型的电容触摸屏具有良好的效果。

请参与图1、图1显示本实用新型电容触摸屏的纵截面图，图2显示本实用新型电容触摸屏的俯视图；该电容触摸屏包括相层叠的玻璃基底1、石墨烯膜层2及玻璃盖层3（图2中未示出），该石墨烯膜层2形成于该玻璃基底1之上，该玻璃盖层3形成于该石墨烯膜层2之上。也即，本实用新型电容触摸屏为相层叠的三层结构，下层为玻璃基底1，中间层为石墨烯膜层2，最上层为玻璃盖层3。

该石墨烯膜层2的厚度为0.335-1.34nm。进一步，该玻璃基底1的厚度为0.2-2mm。该玻璃盖层3的厚度为0.5-1.1mm。

从图2该石墨烯膜层2上具有一定的镂空图案，该镂空图案没有特别要求，根据生产的需要设计。

进一步，请参阅图1，该电容触摸屏上还包括油墨4，该油墨4在电容触摸屏的四周边框，具体没有限制。

本实用新型的电容触摸屏制备方法如下：

1、取白玻璃，清洗，吹干后，旋涂机制作油墨，厚度1.3-1.8μm，再经过前烘烤，曝光，显影，后烘烤。

2、在气相沉积设备中，通入甲烷气体，放入铜箔，加热至1000℃，铜箔上析出碳原子，形成石墨烯材料；涂上有机玻璃，再固化，将铜箔溶掉；再贴到带有油墨的玻璃上，将反面的有机玻璃溶掉。厚度为0.335-1.34nm，形成石墨烯玻璃。

3、用光纤激光打标机刻蚀玻璃，功率15-20W，形成石墨烯图案；

4、在该石墨烯图案上形成玻璃盖层，得到完整的石墨烯电容触摸屏。

具体地，原片玻璃经过清洗机清洗，吹干后，丝网印刷黑色油墨，厚度为1.3-1.8μm，通过前烘烤85℃5min，曝光100-140s，显影60-90s，后烘烤230℃60min。再转印石墨烯薄膜，厚度为0.335-1.34nm，用光纤激光打标机刻蚀石墨烯，功率15-20W，速度1000-5000mm/s，形成功能图案，得到石墨烯电容触摸屏。激光打标的具体技术在CN201110375846中有完整揭露。