[实用新型]一种二氯二氢硅除杂设备

权利要求书

1.一种二氯二氢硅除杂设备，其特征在于，包括提纯塔，所述提纯塔包括： 

填料提纯区，所述填料提纯区设有将待除杂的液相二氯二氢硅输送进所述提纯塔内的进料口，所述填料提纯区对由所述进料口提供的液相二氯二氢硅进行粗提纯，得到气相二氯二氢硅和液态高沸物；和 

吸附区，所述吸附区设在所述填料提纯区上方且所述吸附区内配置有吸附剂，以对所述气相二氯二氢硅进行精提纯来除去其中的杂质，其中， 

所述填料提纯区的下方设有进气口，通过所述进气口向所述提纯塔内提供气相的二氯二氢硅， 

所述吸附区的上方设有出气口，以将经精提纯的气相二氯二氢硅排出所述提纯塔。 

2.根据权利要求1所述的二氯二氢硅除杂设备，其特征在于，所述提纯塔还具有： 

排液口，所述排液口设在所述提纯塔的底部以将所述液态高沸物排出所述提纯塔。 

3.根据权利要求2所述的二氯二氢硅除杂设备，其特征在于，还包括： 

再沸器，所述再沸器与所述排液口相连，将其中的液态高沸物加热成富含杂质的气相氯硅烷。 

4.根据权利要求3所述的二氯二氢硅除杂设备，其特征在于，加热得到的所述气相氯硅烷被通过所述进气口送入所述提纯塔以便与所述填料提纯区的液相二氯二氢硅进行传热、传质。 

5.根据权利要求2所述的二氯二氢硅除杂设备，其特征在于，还包括： 

高沸物冷却器，所述高沸物冷却器与所述排液口相连以冷却部分液态氯硅烷并采出。 

6.根据权利要求1所述的二氯二氢硅除杂设备，其特征在于，还包括： 

冷凝器，所述冷凝器将经精提纯的气相二氯二氢硅冷却为液相二氯二氢硅。 

7.根据权利要求6所述的二氯二氢硅除杂设备，其特征在于，冷却得到的液相二氯二氢硅的一部分被回流至所述提纯塔。 

8.根据权利要求1所述的二氯二氢硅除杂设备，其特征在于，所述填料提纯区填充有波纹板金属丝网填料。 

9.根据权利要求1所述的二氯二氢硅除杂设备，其特征在于，所述吸附剂为活性炭吸附剂。