[实用新型]气体喷洒模块有效
申请号: | 201220176888.0 | 申请日: | 2012-04-24 |
公开(公告)号: | CN202610323U | 公开(公告)日: | 2012-12-19 |
发明(设计)人: | 王庆钧;黄智勇;陈建志;简荣祯;蔡陈德;林龚樑 | 申请(专利权)人: | 财团法人工业技术研究院 |
主分类号: | C23C16/455 | 分类号: | C23C16/455 |
代理公司: | 中科专利商标代理有限责任公司 11021 | 代理人: | 汤保平 |
地址: | 中国台*** | 国省代码: | 中国台湾;71 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 气体 喷洒 模块 | ||
技术领域
本实用新型是有关于一种气体喷洒模块,且特别是有关于一种具有气体分布板,能使气体更均匀地喷出的气体喷洒模块。
背景技术
随着镀膜工艺的发展,在化学气相沉积的反应过程中,如何将气体均匀地喷洒到腔室中便成为重要的问题。对此,气体喷洒模块(gas shower module),特别是气体喷洒头(gas showerhead)扮演了重要的角色。
针对气体喷洒模块或气体喷洒头的设计与结构,已经有多种专利提出。美国专利US 7138336B2与美国专利US 7641939B2采用喷洒头进气、腔室侧边抽气的方式控制气体进出。美国专利US 6921437揭露一种可预先混合先驱气体的气体分布模块,但不适用于先驱气体不可预先混合的工艺。美国专利US 6478872揭露一种将气体输送至腔室的方法,以及用于输送气体的喷洒头。然而该设计的构造复杂,且制造成本昂贵。
实用新型内容
本实用新型提供一种气体喷洒模块,相较于已知的气体喷洒模块可更均匀地喷洒气体。
本实用新型提出一种气体喷洒模块,包括喷洒头主体、供气板、气体分布板以及气体喷洒板。喷洒头主体具有气体喷洒面与相对气体喷洒面的进气面。供气板设于喷洒头主体的进气面,其中供气板具有至少一第一气孔。气体分布板设于气体喷洒面与进气面之间的喷洒头主体内,其中气体分布板具有多个第二气孔。气体喷洒板设于喷洒头主体的气体喷洒面,其中气体喷洒板具有多个第三气孔,使一气体经由供气板的第一气孔流入喷洒头主体内,并经气体分布板的第二气孔扩散至气体喷洒板,再自第三气孔喷出。供气板与气体分布板的间距在7mm-9mm之间。气体分布板与气体喷洒板的间距在7mm-9mm之间。第一气孔的数量与第二气孔的数量的比例在1∶4-1∶100之间。第二气孔的数量与第三气孔的数量的比例在1∶4-1∶100之间。第二气孔的数量在900个-1050个之间。第二气孔是沿气体分布板的表面上的两垂直方向呈45度角对称分布。
在本实用新型的一实施例中,上述的第一气孔与第二气孔非相对设置。
在本实用新型的一实施例中,上述的第二气孔与第三气孔非相对设置。
在本实用新型的一实施例中,上述的供气板与气体分布板互相平行。
在本实用新型的一实施例中,上述的气体分布板与气体喷洒板互相平行。
在本实用新型的一实施例中,上述的第一气孔的直径在1.5mm-9mm之间。
在本实用新型的一实施例中,上述的第二气孔的直径在1.5mm-9mm之间。
在本实用新型的一实施例中,上述的第三气孔的直径在1.5mm-9mm之间。
本实用新型的有益效果是:相较于已知的气体喷洒模块可更均匀地喷洒气体。
附图说明
为让本实用新型的上述特征能更明显易懂,下文特举实施例,并配合附图作详细说明如下,其中:
图1是依照本实用新型一实施例所绘示的气体喷洒模块示意图。
图2A是依照本实用新型一实施例所绘示的进气板俯视图。
图2B是依照本实用新型一实施例所绘示的气体分布板俯视图。
图2C是依照本实用新型一实施例所绘示的气体喷洒板俯视图。
图3A是依照本实用新型另一实施例所绘示的进气板俯视图。
图3B是依照本实用新型另一实施例所绘示的气体分布板俯视图。
图3C是依照本实用新型另一实施例所绘示的气体喷洒板俯视图。
具体实施方式
图1是依照本实用新型一实施例所绘示的气体喷洒模块的示意图。请参照图1。气体喷洒模块100包括喷洒头主体102、供气板104、气体分布板106以及气体喷洒板108。喷洒头主体102具有气体喷洒面102a以及相对气体喷洒面102a的进气面102b。供气板104设置于进气面102b,其中供气板104具有第一气孔104a。气体分布板106设置于喷洒头主体102内位于气体喷洒面102a与进气面102b之间,其中气体分布板106具有多个第二气孔106a。气体喷洒板108设置于气体喷洒面102a,其中气体喷洒板108具有多个第三气孔108a。
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C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆,例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上,例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆,例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的