[实用新型]基于自旋重取向的高灵敏度薄膜微型温度传感器有效

专利信息
申请号: 201220130543.1 申请日: 2012-08-17
公开(公告)号: CN202582773U 公开(公告)日: 2012-12-05
发明(设计)人: 游龙;刘洪鲜;邓永兵;刘海洲;陈建华 申请(专利权)人: 郑州方兴机械电子有限公司
主分类号: G01K7/16 分类号: G01K7/16
代理公司: 北京鑫浩联德专利代理事务所(普通合伙) 11380 代理人: 李荷香
地址: 450001 河南省郑州*** 国省代码: 河南;41
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: 基于 自旋 取向 灵敏度 薄膜 微型 温度传感器
【说明书】:

技术领域

本实用新型涉及一种温度传感器,尤其涉及一种热响应速度快、便于集成、易于携带的薄膜微型温度传感器。

背景技术

随着信息技术和集成电子技术的广泛应用,对传感器的要求越来越高。温度传感器的生产量越来越大,使用范围越来越广,不仅用于科学研究,航天和海洋中测温,表面测温, 而且在供暖通风和空调也开始应用,并已扩展到家用电器测控温方面,在测温产品市场有很大的竞争力;但是现有的温度传感器的热响应速度慢、精确度不高、稳定性差、很难与二次仪表或带微处理机的读数装置配套和集成、并且体积大、重量重、携带不便、生产成本高、价格昂贵、机械性能差。

发明内容

本实用新型的目的在于克服现有技术中的不足,而提供一种热响应速度快、便于集成、高空间分辨率、体积小、易于携带、机械性能好的基于自旋重取向的高灵敏度薄膜微型温度传感器。

本实用新型的目的是这样实现的:

一种基于自旋重取向的高灵敏度薄膜微型温度传感器,包括硅基片,所述的硅基片上依次设置有底下层、强磁性层、绝缘层、自由层和保护层,其中所述的底下层和保护层均为金属元素制成的电极,所述的强磁性层是由薄膜电阻器制成,所述的绝缘层为MgO层或者Cu层,所述的自由层是由高垂直磁晶各向异性的Co/Pt多层膜与高自旋极化率的平面磁各向异性CoFeB交换耦合膜组成。

一种基于自旋重取向的高灵敏度薄膜微型温度传感器,包括硅基片,所述的硅基片上依次设置有底下层、强磁性层、绝缘层、自由层和保护层,其中所述的底下层和保护层均为金属元素制成的电极,所述的强磁性层是由薄膜电阻器制成,所述的绝缘层为MgO层或者Cu层,所述的自由层是由高垂直磁各向异性膜Co/Ni多层膜组成。

所述的薄膜电阻器是由MnIr反铁磁膜和CoFe/CoFeB强铁磁膜组成的巨磁阻或者磁隧道结薄膜电阻器,所述的CoFe/CoFeB强铁磁膜 设置在MnIr反铁磁膜 的外侧,所述的MnIr反铁磁膜的厚度大于CoFe/CoFeB强铁磁膜的厚度。

所述的底下层和保护层的厚度为3-5纳米。

所述的强磁性层的厚度为24纳米。

所述的绝缘层的厚度为1.6纳米。

所述的自由层的厚度为1.5纳米。

本实用新型具有以下积极的效果:本实用新型基于自旋重取向的高灵敏度薄膜微型温度传感器在硅基片上依次设置有底下层、强磁性层、绝缘层、自由层和保护层,每层的厚度均很薄,这样不仅保证了本实用型的机械性能,而且本实用新型的体积很小,便于携带和集成;本实用型的强磁性层是由薄膜电阻器制成,自由层是由高垂直磁各向异性膜或者高垂直磁各向异性膜与高自旋极化率的平面磁各向异性交换耦合膜组成,这样本实用新型的热响应速度更快,精确度更高;另外,本实用新型的结构简单,生产工艺简单,有效的节约了生产成本,进而降低了售价,便于市场推广;另外,本实用新型的结构简单,容易实现。

附图说明

图1为本实用新型一种方案的结构示意图。

图2为本实用新型另一种方案的结构示意图。

图中:1、硅基片  2、底下层  3、强磁性层  3-1、MnIr反铁磁膜  3-2、CoFe/CoFeB强铁磁膜  4、绝缘层  5、自由层   5-1、CoFeB交换耦合膜  5-2、Co/Pt多层膜   6、保护层 。

具体实施方式

下面结合附图对本实用新型做进一步的说明:

实施例1

如图1所示,一种基于自旋重取向的高灵敏度薄膜微型温度传感器,包括硅基片1,所述的硅基片1上依次设置有底下层2、强磁性层3、绝缘层4、自由层5和保护层6,其中所述的底下层2和保护层6均为金属元素制成的电极,所述的强磁性层3是由薄膜电阻器制成,所述的绝缘层4为MgO层或者Cu层,所述的自由层5是由高垂直磁晶各向异性的Co/Pt多层膜5-2与高自旋极化率的平面磁各向异性CoFeB交换耦合膜5-1组成。

所述的薄膜电阻器是由MnIr反铁磁膜3-1和CoFe/CoFeB强铁磁膜3-2组成的巨磁阻或者磁隧道结薄膜电阻器,所述的CoFe/CoFeB强铁磁膜3-2设置在MnIr反铁磁膜3-1的外侧,所述的MnIr反铁磁膜3-1的厚度大于CoFe/CoFeB强铁磁膜3-2的厚度。

所述的底下层2和保护层6的厚度为3-5纳米。

所述的强磁性层3的厚度为24纳米。

所述的绝缘层4的厚度为1.6纳米。

所述的自由层5的厚度为1.5纳米。

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于郑州方兴机械电子有限公司,未经郑州方兴机械电子有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201220130543.1/2.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top