[实用新型]等离子体处理设备

权利要求书

1.一种等离子体处理设备，包括：

腔室，形成执行等离子体工艺的处理空间，且包括开口，通过该开口能够将衬底运入所述处理空间或从所述处理空间中取出；

第一封盖部件，被安装成覆盖所述开口的内周表面，以防止所述内周表面被等离子体蚀刻，且所述第一封盖部件被分成多个单元；以及

第二封盖部件，被安装成覆盖所述腔室的一侧的内壁以及所述第一封盖部件朝向所述腔室的内侧方向形成的表面。

2.根据权利要求1所述的等离子体处理设备，其中，所述第一封盖部件包括：形成上部结构的第一单元；形成侧面结构的第二单元和第三单元；以及形成下部结构的第四单元。

3.根据权利要求2所述的等离子体处理设备，其中，将所述第一单元和所述第四单元形成为具有相同的结构，将所述第二单元和所述第三单元形成为具有相同的结构，并将所述第一单元至所述第四单元分别在至少两处位置固定于所述腔室的壁上。

4.根据权利要求1所述的等离子体处理设备，其中，所述开口的内周表面包括沿着运送所述衬底的方向的台阶状结构，且所述第一封盖部件包括在运送所述衬底的方向上的与所述内周表面形状相对应的台阶状部分。

5.根据权利要求4所述的等离子体处理设备，其中，所述第一封盖部件在朝向所述腔室内侧方向的横截面厚度比朝向所述腔室外侧方向的横截面厚度厚。

6.根据权利要求5所述的等离子体处理设备，其中，所述台阶状部分包括：形成为高度互不相同的第一表面和第二表面；和在所述第一表面与所述第二表面之间形成垂直表面的第三表面；以及

所述第一封盖部件包括多个通孔，该通孔穿透所述第三表面和所述第一封盖部件在朝向所述腔室内侧方向上形成的一个表面。

7.根据权利要求6所述的等离子体处理设备，其中，所述通孔包括：

一个端部，用于将所述第一封盖部件固定到所述腔室的第一紧固部件安装到该端部，

另一端部，用于将所述第二封盖部件固定到所述第一封盖部件朝向所述腔室内侧方向形成的一个表面的所述第二紧固部件安装到该端部，且

所述多个通孔包括前端部和后端部，且前端部的直径小于后端部的直径。

8.根据权利要求7所述的等离子体处理设备，其中，将所述第一紧固部件的头安装到通孔的前端部，将所述第二紧固部件的主体安装到通孔的后端部，且所述第二紧固部件的主体的直径等于或大于所述第一紧固部件的所述头的直径。

9.一种等离子体处理设备，包括：

腔室，形成执行等离子体工艺的处理空间，且包括开口，通过该开口能够将衬底运入所述处理空间或从所述处理空间中取出；

第一封盖部件，被安装成覆盖所述开口的内周表面，以防止所述内周表面被等离子体蚀刻；

第二封盖部件，被安装成覆盖所述腔室的一侧的内壁以及所述第一封盖部件朝向所述腔室的内侧方向形成的表面；以及

第三封盖部件，被安装成覆盖所述第二封盖部件的邻近所述开口的边缘。

10.根据权利要求9所述的等离子体处理设备，其中，通过多个紧固部件将所述第一封盖部件、所述第二封盖部件和所述第三封盖部件安装成能够被替换。

11.根据权利要求9所述的等离子体处理设备，其中，所述开口的内周表面包括沿着运送所述衬底的方向的台阶状结构，且所述第一封盖部件包括在运送所述衬底的方向上的与所述内周表面形状相对应的台阶状部分。

12.根据权利要求11所述的等离子体处理设备，其中，所述第一封盖部件在朝向所述腔室内侧方向的横截面厚度比朝向所述腔室外侧方向的横截面厚度厚。

13.根据权利要求11所述的等离子体处理设备，其中，所述台阶状部分包括：形成为高度互不相同的第一表面和第二表面；和在所述第一表面与所述第二表面之间形成垂直表面的第三表面；以及

所述第一封盖部件包括多个通孔，该通孔穿透所述第三表面和所述第一封盖部件在朝向所述腔室内侧方向上形成的一个表面。