[发明专利]光纤锥区制作方法及装置有效

专利信息
申请号: 201210587320.2 申请日: 2012-12-28
公开(公告)号: CN103896484A 公开(公告)日: 2014-07-02
发明(设计)人: 闫平;郝金坪;巩马理;肖起榕;张海涛 申请(专利权)人: 清华大学
主分类号: C03B37/014 分类号: C03B37/014
代理公司: 北京路浩知识产权代理有限公司 11002 代理人: 王莹
地址: 100084 北京市海*** 国省代码: 北京;11
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摘要:
搜索关键词: 光纤 制作方法 装置
【权利要求书】:

1.一种光纤锥区制作方法,其特征在于,包括步骤:

S1.将光纤待成锥部分竖直浸入氢氟酸溶液;

S2.驱动光纤待成锥部分沿竖直方向上下运动,直至光纤待成锥部分被腐蚀至所需直径。

2.根据权利要求1所述的光纤锥区制作方法,其特征在于,所述步骤S1之前还包括对光纤待成锥部分进行预处理:

剥除光纤待成锥部分的涂覆层;

依次使用酒精或酒精溶液以及丙酮或丙酮溶液清洗光纤待成锥部分。

3.根据权利要求1-2任意一项所述的光纤锥区制作方法,其特征在于,所述上下运动过程中,运动速度为匀速或变速。

4.根据权利要求3所述的光纤锥区制作方法,其特征在于,所述上下运动过程中,运动幅度保持不变或随时间变化。

5.一种实现权利要求1-4任意一项所述方法的光纤锥区制作装置,其特征在于,包括盛有氢氟酸溶液的容器以及设置于所述氢氟酸溶液液面之上的限位机构;光纤待成锥部分穿过所述限位机构浸入所述氢氟酸溶液,所述限位机构保证光纤待成锥部分的竖直浸入。

6.根据权利要求5所述的光纤锥区制作装置,其特征在于,所述限位机构包括设置于氢氟酸溶液液面上方的容器盖,所述容器盖上开设有限位通孔。

7.根据权利要求5所述的光纤锥区制作装置,其特征在于,所述限位机构包括设置于氢氟酸溶液液面上方的分隔层以及设置于所述分隔层上方的容器盖,两个同轴的限位通孔分别被开设在所述分隔层以及容器盖上。

8.根据权利要求6或7所述的光纤锥区制作方法,其特征在于,所述限位通孔直径为1mm-2mm。

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