[发明专利]校准方法及其校准装置

权利要求书

1.一种校准方法，该方法包括以下步骤：

查找校准点；

对找到的校准点进行校准，

其特征在于，所述的查找校准点的步骤包括：

以一个固定频率间隔扫描测量信号，生成基准曲线；

连接所述的基准曲线上的两点，生成校准直线；

计算所述的基准曲线上的点到所述的校准直线的竖直距离与一个校准参数的大小关系；

根据上述的大小关系，产生校准点。

2.根据权利要求1所述的校准方法，其特征在于，

所述的连接所述的基准曲线上的两点，生成校准直线，

计算所述的基准曲线上的点到所述的校准直线的竖直距离与一个校准参数的大小关系的步骤是指，

连接所述的基准曲线的起点和终点，生成第一校准直线；

按照从所述基准曲线的起点到终点的顺序，依次计算所述的基准曲线上的点到所述的第一校准直线的竖直距离与所述的校准参数的大小关系。

3.根据权利要求2所述的校准方法，其特征在于，

所述的根据所述的基准曲线上的点到所述的第一校准直线的竖直距离与所述的校准参数的大小关系，产生校准点的步骤还包括，

根据所述的大小关系，产生一个校准中间点；

连接所述的校准中间点与所述基准曲线的终点，生成第二校准直线；

按照从所述校准中间点到所述终点的顺序，依次计算所述的基准曲线上的点到所述的第二校准直线的竖直距离与所述的校准参数的大小关系。

4.根据权利要求3所述的校准方法，其特征在于，

所述的根据所述的大小关系，产生校准点的步骤是指，

当所述基准曲线在所述的校准中间点与所述的终点之间的点到该校准中间点对应的校准直线的竖直距离大于所述的校准参数时，判定基准曲线上的在所述的校准中间点与所述的终点之间的到该校准中间点对应的校准直线的竖直距离大于所述的校准参数的点是一个新的校准中间点。

5.根据权利要求4所述的校准方法，其特征在于，

所述的根据所述的大小关系，产生校准点的步骤是指，

当所述基准曲线在所述的校准中间点与所述的终点之间的所有点到该校准中间点对应的校准直线的竖直距离都小于所述的校准参数时，判定该校准中间点是一个校准点。

6.根据权利要求5所述的校准方法，其特征在于，所述的根据所述的大小关系，产生校准点的步骤是指，将新找到的校准点作为所述基准曲线的终点。

7.一种校准装置，包括

一个查找校准点模块，用于查找校准点；

一个校准模块，用于对查找到的校准点进行校准，

其特征在于，所述的查找校准点模块包括：

一个基准曲线生成模块，用于以一个固定频率间隔扫描测量信号，生成基准曲线；

一个校准直线生成模块，用于连接所述的基准曲线上的两点，生成校准直线；

一个计算模块，用于计算所述的基准曲线上的点到所述的校准直线的竖直距离与一个校准参数的大小关系；

一个校准点生成模块，用于根据上述的大小关系，产生校准点。

8.根据权利要求7所述的校准装置，其特征在于，

所述的校准直线生成模块，用于连接所述的基准曲线的起点和终点，生成第一校准直线；

所述的计算模块，用于按照从所述基准曲线的起点到终点的顺序，依次计算所述的基准曲线上的点到所述的第一校准直线的竖直距离与所述的校准参数的大小关系。

9.根据权利要求8所述的校准装置，其特征在于，

所述的校准点生成模块，还用于根据所述的大小关系，产生一个校准中间点；

所述的校准直线生成模块，用于连接所述的校准中间点与所述终点，生成第二校准直线；

所述的计算模块，用于按照从所述校准中间点到所述终点的顺序，依次计算所述的基准曲线上的点到所述的第二校准直线的竖直距离与所述的校准参数的大小关系。