[发明专利]无方向性抖动方法

权利要求书

1.一种用在光刻工艺中的方法，包括：

在图形数据库系统(GDS)网格中提供集成电路(IC)布局设计；

将所述IC布局设计GDS网格转换成第一曝光网格；

对所述第一曝光网格应用无方向性抖动技术；

在对所述第一曝光网格应用抖动的同时，对所述第一曝光网格应用网格移位，以生成网格移位曝光网格；

对所述网格移位曝光网格应用无方向性抖动；以及

将接受抖动之后的所述第一曝光网格与接受抖动之后的所述网格移位曝光网格相加，以生成第二曝光网格。

2.根据权利要求1所述的方法，其中，所述第一曝光网格由像素的二维阵列形成，并且其中，所述像素尺寸被选择为大于所述IC布局设计网格的像素尺寸。

3.根据权利要求1所述的方法，其中，所述无方向性抖动包括沿着第一方向抖动。

4.根据权利要求1所述的方法，其中，所述无方向性抖动包括沿着第二方向抖动。

5.根据权利要求1所述的方法，其中，对第一曝光网格应用多个无方向性抖动。

6.根据权利要求1所述的方法，其中，对所述第一曝光网格应用Floyd-Steinberg抖动。

7.根据权利要求1所述的方法，其中，对所述第一曝光网格应用多个网格移位。

8.根据权利要求1所述的方法，其中，所述网格移位包括沿着第一方向移位。

9.一种用于提供修改后的曝光网格的方法，包括：

在图形数据库系统(GDS)网格中提供集成电路(IC)布局设计；

将所述IC布局设计GDS网格转换成第一曝光网格，并且使用针对灰度级的k位；

抖动所述第一曝光网格，并且使用针对灰度级的少于k位；

在抖动所述第一曝光网格的同时，对所述第一曝光网格应用网格移位，以生成网格移位曝光网格，并且使用针对灰度级的少于k位，并且对所述网格移位曝光网格应用抖动；以及

将接受抖动之后的所述第一曝光网格与接受抖动之后的所述网格移位曝光网格相加，以生成修改后的曝光网格。

10.一种提供在光刻工艺中使用的网格的方法，包括：

在图形数据库系统(GDS)网格中提供具有像素坐标系的二维阵列中的多个多边形的集成电路(IC)布局设计；

对所述IC布局设计GDS网格应用邻近校正处理；

将所述IC布局设计GDS网格转换成具有像素坐标系统的二维阵列的多个多边形的第一曝光网格，使用大于所述IC布局设计GDS网格的像素尺寸，并且使用对于灰度级的k位；

对所述第一曝光网格应用抖动，其中，接受抖动之后的所述第一曝光网格使用针对灰度级的少于k位；

在对所述第一曝光网格应用抖动的同时，对所述第一曝光网格应用网格移位，其中，所述网格移位曝光网格使用针对灰度级的少于k位，并且对所述网格移位曝光网格应用抖动；以及

将接受抖动之后的所述第一曝光网格与接受抖动之后的所述网格移位曝光网格相加，以生成第二曝光网格，其中，所述第二曝光网格包含与所述第一曝光网格相同或更少的数据量。