[发明专利]一种制备GaP薄膜材料的方法有效
申请号: | 201210552003.7 | 申请日: | 2012-12-19 |
公开(公告)号: | CN103173715A | 公开(公告)日: | 2013-06-26 |
发明(设计)人: | 刘兴泉;张铭菊 | 申请(专利权)人: | 常州星海电子有限公司 |
主分类号: | C23C14/06 | 分类号: | C23C14/06;C23C14/24;C30B23/02;C30B29/44 |
代理公司: | 常州市维益专利事务所 32211 | 代理人: | 何学成 |
地址: | 213022 *** | 国省代码: | 江苏;32 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 制备 gap 薄膜 材料 方法 | ||
1.一种制备GaP薄膜材料的方法,其特征在于:以Ga2O3,P2O5以及还原萃取剂为原料,加入与固体原料质量50%~100%相当的无水乙醇,研磨均匀后,用10~15MPa的压力将其压成厚度为1~10mm的片材,然后将其放置于反应器刚玉坩埚中,用高纯氮气抽真空,置换到氧气浓度为ppm级,然后再用混合气体抽真空置换1~2次,抽真空至7~13Pa,控制升温速度在5~10℃/min范围内,反应区加热升温至1200℃~1250℃范围内,沉积区加热升温至600℃~800℃范围内,恒温3~4h,其间保持真空度不小于-0.08MPa;当反应区温度达到预定温度后,自然降温至室温,充入混合气体至常压后,即得到棕红色的GaP薄膜。
2.根据权利要求1所述的一种制备GaP薄膜材料的方法,其特征在于:按摩尔比计:所述的Ga2O3︰As2O3︰还原萃取剂为1.0︰1.0︰8.0 。
3.根据权利要求1或2所述的一种制备GaP薄膜材料的方法,其特征在于:所述的还原萃取剂选用:活性炭、氢气、氢气-氩气混合气及碳氢化合物中的至少一种。
4.根据权利要求1所述的一种制备GaP薄膜材料的方法,其特征在于:所述的混合气体为Ar与H2的混合气体,所述的H2体积占混合气体总体积的10%~30%。
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