[发明专利]一种掩膜板及其实现曝光接合的方法

说明书

技术领域

本发明涉及显示技术领域，具体涉及一种掩膜板及其实现曝光接合的方法。

背景技术

目前，在对基板进行曝光接合时，由于接合精度过差以及接合时曝光量不统一，经常发生曝光接合不良，该不良无法量测、补偿、修正调整。并且，针对上述的曝光接合不良，目前尚未出现有效的解决办法。

发明内容

有鉴于此，本发明的主要目的在于提供一种掩膜板及其实现曝光接合的方法，以尽量避免曝光接合不良的发生。

为达到上述目的，本发明的技术方案是这样实现的：

一种掩膜板，该掩膜板用于曝光接合的部位设置有图形，该图形用于：结合所述掩膜板上的所述图形进行曝光接合后，在基板上形成具有特定位置关系的能够对所述掩膜板进行位置上的调校的图形。

所述掩膜板包括第一掩膜板、第二掩膜板；在所述第一掩膜板用于曝光接合的部位设置有第一图形，在所述第二掩膜板用于曝光接合的部位设置有第二图形，所述第一图形和第二图形用于通过所述第一掩膜板和第二掩模板对所述基板进行曝光接合后在所述基板上形成具有特定位置关系的能够对所述掩膜板进行位置上的调校的图形。

所述第一图形设置于所述第一掩膜板的一端，所述第二图形设置于所述第二掩膜板上与所述第一掩膜板相同的一端或对端。

所述掩膜板上的所述图形包含第一图形、以及通过所述掩膜板对所述基板进行曝光接合后在所述基板上能够与在所述基板上形成的第一图形重叠或存在错位的第二图形。

所述第一图形设置于所述掩膜板的一端，所述第二图形设置于所述掩膜板的对端。

所述第一图形和/或第二图形的数量为一个、两个或更多。

所述图形是孔，或包含孔。

一种基于所述的掩膜板实现曝光接合的方法，该方法包括：

步骤一、结合所述掩膜板上的所述图形进行曝光接合后，在基板上形成具有特定位置关系的图形；

步骤二、根据该图形对所述掩膜板进行位置上的调校。

所述结合所述掩膜板上的所述图形进行曝光接合后，在基板上形成具有特定位置关系的图形包括以下方式中至少一种：

方式一、应用所述掩膜板对所述基板进行曝光，在所述基板上形成所述图形中的第一图形；在后续应用该掩膜板对所述基板进行曝光接合时，在所述基板上形成与所述第一图形重叠或存在错位的第二图形；或，

应用所述掩膜板对所述基板进行曝光，在所述基板上形成所述图形中的第一图形；在后续应用该掩膜板对所述基板进行曝光接合时，在所述基板上形成与所述第一图形重叠或存在错位的第二图形，还形成用于实现下一次曝光接合的第一图形；

方式二、应用所述掩膜板中的一块掩膜板对所述基板进行曝光，在所述基板上形成所述图形中的第一图形，在后续应用所述掩膜板中的另一块掩膜板对所述基板进行曝光接合时，在所述基板上形成与所述第一图形重叠或存在错位的第二图形；或，

应用所述掩膜板中的一块掩膜板对所述基板进行曝光，在所述基板上形成所述图形中的第一图形，在后续应用所述掩膜板中的另一块掩膜板对所述基板进行曝光接合时，在所述基板上形成与所述第一图形重叠或存在错位的第二图形，还形成用于实现下一次曝光接合的第一图形。

所述第一图形与第二图形之间的特定位置关系为重叠时，所述进行位置上的调校的方法为：当完成曝光接合后在基板上形成的第一图形与第二图形没能重叠在一起时，根据第一图形与第二图形之间相差的尺寸对用于曝光接合的掩膜板进行位置上的调校，使通过该掩膜板完成曝光接合后的第一图形与第二图形重叠在一起；

所述第一图形与第二图形之间的特定位置关系为存在错位时，所述进行位置上的调校的方法为：当完成曝光接合后在基板上形成的第一图形与第二图形之间不具有所述错位时，对用于曝光接合的掩膜板进行位置上的调校，使通过该掩膜板完成曝光接合后的第一图形与第二图形之间存在所述错位。

本发明的掩膜板及其实现曝光接合的方法，因在掩膜板上用于曝光接合的部位设置有图形，并在结合该掩膜板上的所述图形进行曝光接合后，在基板上形成具有特定位置关系的图形；因而能根据在所述基板上形成的图形，对所述掩膜板进行位置上的调校，使得本发明可有效保证曝光接合的精度，因而避免了曝光接合不良的发生。

附图说明

图1至图3为本发明实施例一的实现曝光接合的原理示意图；

图4与图5为本发明实施例二的实现曝光接合的原理示意图；

图6与图7为本发明实施例三的实现曝光接合的原理示意图；

图8为本发明实施例的实现曝光接合的流程简图；