[发明专利]一种表面处理方法有效
| 申请号: | 201210472646.0 | 申请日: | 2012-11-20 |
| 公开(公告)号: | CN103066004A | 公开(公告)日: | 2013-04-24 |
| 发明(设计)人: | 王向华;熊贤风;邱龙臻;刘则 | 申请(专利权)人: | 京东方科技集团股份有限公司 |
| 主分类号: | H01L21/70 | 分类号: | H01L21/70;B41M5/00 |
| 代理公司: | 北京中博世达专利商标代理有限公司 11274 | 代理人: | 申健 |
| 地址: | 100015 *** | 国省代码: | 北京;11 |
| 权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索关键词: | 一种 表面 处理 方法 | ||
技术领域
本发明涉及打印制造薄膜器件技术领域,尤其涉及一种表面处理方法。
背景技术
喷墨打印技术是现代办公印刷中采用的主要技术之一,近年来,研究人员开始尝试把喷墨打印技术应用于平面功能材料的制备,如制备聚合物导电膜、制备彩色有机发光二极管、制备薄膜半导体器件等。
喷墨打印是喷印的墨水材料在衬底上经过铺展,干燥和固化成膜,最终得到满足特定性能要求的薄膜。打印薄膜的质量包括薄膜的形貌和薄膜在衬底界面的状态,是决定打印薄膜器件性能的关键因素。一方面,衬底表面能影响打印薄膜质量,表面能的大小是色散分量和极性分量之和。另一方面,打印薄膜的质量还与打印的墨水相关,由于墨水本身的特性,不同墨水对衬底的色散分量和/或极性分量的要求也不相同。
现有的喷墨打印,基板上已经在部分区域沉积有不同材质的衬底图案,且不同材质的衬底图案,其表面能也不同。而不同的打印需求对不同衬底图案表面能的要求也不相同。例如,为了得到均匀的薄膜形貌,需要减小不同衬底图案的表面能差,使其表面能相近;而为了提高打印薄膜的精度,又需要增加不同衬底图案的表面能差。这就需要根据实际需要,改变衬底图案的表面能,使不同衬底图案的表面能之差变大或变小。
发明内容
本发明的实施例提供一种表面处理方法,通过所述的表面处理方法,改变衬底图案的色散分量和/或极性分量进而改变衬底图案的表面能,从而使不同衬底图案的表面能之差变大或变小,以满足打印需求。
为达到上述目的,本发明的实施例采用如下技术方案:
本发明提供了一种表面处理方法,包括:对形成有至少两种衬底图案的基板表面进行至少一次自组装单分子层表面处理,以及一次紫外臭氧清洗表面处理,以使得不同衬底图案的表面能之差变大或变小。
可选的,所述自组装单分子层表面处理具体包括:
在容置空间的第一位置处加入待形成单分子层的材料或含待形成单分子层的材料的溶液,并将所述形成有至少两种衬底图案的基板置于容置空间内的第二位置处,以使得所述待形成单分子层的材料在所述衬底图案表面形成单分子层。
可选的,所述方法还包括:在容置空间的第一位置处加入待形成单分子层的材料或含待形成单分子层的材料的溶液之前,向容置空间持续通入惰性气体,以排出容置空间内的空气;
在将所述形成有至少两种衬底图案的基板置于容置空间内的第二位置处之后,封闭所述容置空间并停止通入惰性气体;
抽气一定时间,以使得所述待形成单分子层的材料在所述衬底图案表面形成单分子层;
再缓慢通入惰性气体,使容置空间与外界的压强平衡。
可选的,所述待形成单分子层的材料为含氟的疏水硅烷、含氟的硫酚或具有烷基链结构的疏水硅烷。
可选的,所述自组装单分子层表面处理具体包括:
将一定浓度的溶液加入到反应容器中,所述溶液包括待形成单分子层的材料和有机溶剂;
将所述形成有至少两种衬底图案的基板放入上述含待形成单分子层的材料和有机溶剂的溶液中,浸泡一定时间,以使得所述待形成单分子层的材料在所述衬底图案表面形成单分子层。
可选的,在无氧的环境中,至少将所述待形成单分子层的材料和有机溶剂混合,配制成溶液。
可选的,所述将一定浓度的溶液加入到反应容器之前,所述方法还包括:向反应容器中持续通入惰性气体,以排出反应容器中的空气;
在将所述形成有至少两种衬底图案的基板放入上述包括待形成单分子层的材料的溶液之后,所述方法还包括:封闭反应容器。
可选的,所述待形成单分子层的材料为含氟的硫酚、烷基硫醇或具有烷基链结构的疏水硅烷。
可选的,所述自组装单分子层表面处理为两次以上,其中,该两次以上的自组装单分子层表面处理中每次使用的待形成单分子层的材料不同。
可选的,所述紫外臭氧清洗表面处理,根据对衬底表面能的要求,对应调节所述紫外臭氧清洗的时间。
本发明实施例提供的一种表面处理方法,通过一次自组装单分子层表面处理,改变一种衬底图案的色散分量和/或极性分量进而改变所述衬底图案的表面能;通过紫外臭氧清洗表面处理,改变相同衬底图案的色散分量和/或极性分量进而改变衬底图案的表面能,或者改变不同衬底图案的色散分量和/或极性分量进而改变衬底图案的表面能,从而使不同的衬底图案的表面能之差变大或变小,以满足不同的打印需求。
附图说明
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于京东方科技集团股份有限公司,未经京东方科技集团股份有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201210472646.0/2.html,转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇:一种影像传感器晶圆背面处理方法
- 下一篇:一种断路器的灭弧装置
- 同类专利
- 专利分类
H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L21-00 专门适用于制造或处理半导体或固体器件或其部件的方法或设备
H01L21-02 .半导体器件或其部件的制造或处理
H01L21-64 .非专门适用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各组的单个器件所使用的除半导体器件之外的固体器件或其部件的制造或处理
H01L21-66 .在制造或处理过程中的测试或测量
H01L21-67 .专门适用于在制造或处理过程中处理半导体或电固体器件的装置;专门适合于在半导体或电固体器件或部件的制造或处理过程中处理晶片的装置
H01L21-70 .由在一共用基片内或其上形成的多个固态组件或集成电路组成的器件或其部件的制造或处理;集成电路器件或其特殊部件的制造





