[发明专利]光学编码器用反射板及其制造方法、以及光学编码器

说明书

本申请为申请号为200880112634.9、发明名称为“光学编码器用反射板及其制造方法、以及光学编码器”、申请日为2008年9月4日的中国专利申请的分案申请。

技术领域

本发明涉及光学编码器用反射板及其制造方法、以及具备上述反射板的光学编码器。

本申请基于2007年9月5日申请的特愿2007-229887号、及2007年12月28日申请的特愿2007-339778号而要求优先权、将其内容援用于此处。

背景技术

光学编码器是一种用于计测被检测体的旋转角度、移动距离的位置传感器，已知有透过型编码器、反射型编码器等，所述透过型编码器在编码器圆盘上设置狭缝、用受光元件检测透过该狭缝的光来进行定位，所述反射型编码器在编码器圆盘上设置反射区域和非反射区域、用受光元件检测在该反射区域反射的光来进行定位。

例如，在特开2007-121142号公报中公开有一种反射型编码器圆盘(光学编码器用反射板)，其具备光学圆盘、在其表面上形成的吸收层、和在吸收层的表面上被图案化了的反射层。一般而言，在非反射层的表面配置有反射层的以往的光学编码器用反射板，通过以下方法制造。亦即，如图13A～13F所示，首先在基材21上通过真空蒸镀或溅射等形成非反射层25(图13A)，在其上通过真空蒸镀或溅射等形成反射层26(图13B)。接着，在反射层26上形成光致抗蚀剂膜22(图13C)后，经由光掩模进行曝光。对曝光后的光致抗蚀剂膜22实施显影处理，形成抗蚀剂图案22a(图13D)，将该抗蚀剂图案22a作为掩模，对反射层26实施蚀刻处理等使非反射层25露出(图13E)。之后，除去抗蚀剂图案22a使图案化了的反射层26露出(图13F)。由此，可得到表面上具有非反射区域和图案化了的反射区域的以往的光学编码器用反射板。

在制造以往的光学编码器用反射板这样的具备非反射层和在其表面上配置的反射层的反射板的情况下，一般通过真空蒸镀、溅射等的真空工艺而对各层进行成膜。然而，一般而言真空成膜装置比较昂贵，设备费用比较高。另外，根据非反射层、反射层的种类，有可能因层表面的污垢、刮伤而产生层间剥离。

发明内容

发明要解决的课题

本发明涉及的方式，目的是提供层间密合性优异的光学编码器用反射板。另一目的则在于提供生产率高的光学编码器用反射板的制造方法。

根据本发明的第1方式，提供一种光学编码器用反射板，其具备：具有反射面的基材、以及在该反射面的一部分上形成的、含有无电镀覆膜或电解氧化膜的膜。

根据第1方式，提供一种层间密合性优异的光学编码器用反射板。

根据本发明的第2方式，提供一种光学编码器用反射板的制造方法，其包括：准备具有反射面的基材，和于上述反射面的一部分上形成含有无电镀覆膜或电解氧化膜的膜。

根据第2方式，提供一种低成本、生产率高的光学编码器用反射板的制造方法。

根据本发明的第3方式，提供一种具备第1方式涉及的光学编码器用反射板的光学编码器。

根据第3方式，提供一种低成本、耐久性优异的光学编码器。

附图说明

图1是表示光学编码器用反射板的一实施方式的截面图。

图2是表示具备保护膜的反射板的一例的截面图。

图3A是表示具备保护膜的反射板的其它例的截面图。

图3B是表示具备保护膜的反射板的其它例的截面图。

图4A是表示光致抗蚀剂膜形成后的反射板材料的截面图。

图4B是表示对图4A所示的反射板材料实施曝光及显影处理而形成抗蚀剂图案后的反射板材料的截面图。

图4C是表示对图4B所示的反射板材料形成金属置换膜后的反射板材料的截面图。

图4D是表示将图4C所示的反射板材料的金属置换膜置换成无电镀覆膜后的反射板材料的截面图。

图4E是表示除去图4D所示的反射板材料的抗蚀剂图案后的反射板的截面图。

图5A是表示透明光致抗蚀剂膜形成后的反射板材料的截面图。

图5B是表示对图5A所示的反射板材料实施曝光及显影处理而形成透明抗蚀剂图案后的反射板材料的截面图。

图5C是表示在图5B所示的反射板材料上形成金属置换膜后的反射板材料的截面图。

图5D是表示将图5C所示的反射板材料的金属置换膜置换成无电镀覆膜后的反射板的截面图。

图6是表示光学编码器用反射板的其它的实施方式的截面图。

图7是表示具备保护膜的反射板的一例的截面图。