[发明专利]加热装置及等离子体加工设备

权利要求书

1.一种加热装置，用于加热承载有被加工工件的托盘，其包括支撑底座、支撑柱和加热单元，其中，所述加热单元设置在所述支撑底座的上方；所述支撑柱与所述支撑底座固定连接，并且所述支撑柱的顶端高于所述加热单元的顶端，用以支撑所述托盘；所述加热单元包括采用热辐射的方式朝向所述托盘辐射热量的发热元件，其特征在于，所述发热元件包括螺旋状辐射体，所述螺旋状辐射体围绕所述托盘的中心线且沿所述托盘的径向均匀缠绕，并且

所述螺旋状辐射体具有靠近所述托盘的中心线的第一接线端和靠近所述托盘的边缘的第二接线端。

2.根据权利要求1所述的加热装置，其特征在于，所述发热元件为红外辐射灯或电阻丝。

3.根据权利要求1所述的加热装置，其特征在于，所述发热元件还包括第一接线、第二接线、第一接线保护罩和第二接线保护罩，其中

所述第一接线保护罩的顶端与所述第一接线端连接，所述第一接线保护罩的底端在所述支撑底座的边缘位置处贯穿所述支撑底座的厚度，并延伸至所述支撑底座的下方；

所述第一接线位于所述第一接线保护罩的内部，且所述第一接线的一端与所述第一接线端连接；

所述第二接线保护罩的顶端与所述第二接线端连接，所述第二接线保护罩的底端在所述支撑底座的边缘位置处贯穿所述支撑底座的厚度，并延伸至所述支撑底座的下方；

所述第二接线位于所述第二接线保护罩的内部，且所述第二接线的一端与所述第二接线端连接；

所述第一接线保护罩和第二接线保护罩采用陶瓷或石英制作。

4.根据权利要求3所述的加热装置，其特征在于，所述加热单元还包括：导电部件、真空电极以及电源，其中

所述真空电极固定在所述支撑底座上，且所述真空电极的顶端高于所述支撑底座的上表面，所述真空电极的底端低于所述支撑底座的下表面；

所述第一接线的另一端和第二接线的另一端分别穿过所述第一接线保护罩和第二接线保护罩，且借助所述导电部件与所述真空电极的顶端电连接；

所述电源与所述真空电极的底端电连接，其用于向所述发热元件提供电能。

5.根据权利要求4所述的加热装置，其特征在于，所述加热单元还包括导电部件保护罩，所述导电部件保护罩将所述导电部件包覆起来；

所述导电部件保护罩采用陶瓷或石英制作。

6.根据权利要求5所述的加热装置，其特征在于，所述导电部件保护罩为由陶瓷微珠形成的包覆在所述导电部件外部的绝缘层。

7.根据权利要求4所述的加热装置，其特征在于，所述加热单元还包括电极保护罩，所述电极保护罩将所述真空电极的顶端包覆起来；

所述电极保护罩采用陶瓷或石英制作。

8.根据权利要求1所述的加热装置，其特征在于，所述加热装置还包括支撑部件，所述支撑部件用于支撑所述螺旋状辐射体，以将其固定在所述支撑底座的上方。

9.根据权利要求1所述的加热装置，其特征在于，在所述支撑底座的下方设置有升降装置，所述升降装置包括基座、升降驱动机构、密封件以及冷却水管路，其中

所述基座与所述支撑底座连接，所述升降驱动机构与所述基座连接，在所述升降驱动机构的驱动下，所述基座带动所述支撑底座上升或下降；

所述密封件设置于所述基座与支撑底座之间，用以将所述基座与支撑底座之间的缝隙密封；

在所述基座的上表面且紧靠所述密封件的内侧或外侧设置有凹槽，或者，在所述支撑底座的下表面且紧靠所述密封件的内侧或外侧设置有凹槽，所述冷却水管路设置于所述凹槽内部，在所述冷却水管路内通入冷却水以冷却所述密封件。

10.一种等离子体加工设备，其包括反应腔室，在所述反应腔室内的底部设置有加热装置，其特征在于，所述加热装置采用权利要求1-9任意一项权利要求所述加热装置。