[发明专利]一种晶体硅太阳能电池多层二氧化硅减反射膜在审
申请号: | 201210455094.2 | 申请日: | 2012-11-14 |
公开(公告)号: | CN102931242A | 公开(公告)日: | 2013-02-13 |
发明(设计)人: | 侯泽荣;黄仑;卢春晖;王金伟;徐建 | 申请(专利权)人: | 东方电气集团(宜兴)迈吉太阳能科技有限公司 |
主分类号: | H01L31/0216 | 分类号: | H01L31/0216 |
代理公司: | 南京天华专利代理有限责任公司 32218 | 代理人: | 夏平 |
地址: | 214203 江苏省*** | 国省代码: | 江苏;32 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 晶体 太阳能电池 多层 二氧化硅 减反射膜 | ||
1.一种晶体硅太阳能电池多层二氧化硅减反射膜,其特征是,包括沉积在硅基衬底(1)上的至少三层二氧化硅薄膜,所述的各层氧化硅薄膜的折射率从下往上依次减小,且顶层折射率小于2。
2.根据权利要求1所述的晶体硅太阳能电池多层二氧化硅减反射膜,其特征是,所述二氧化硅薄膜共三层,包括沉积在硅基衬底(1)表面的折射率为2.2-2.3的致密层二氧化硅薄膜(2),沉积在致密层二氧化硅薄膜(2)上的折射率为2-2.1的中间层二氧化硅薄膜(3),沉积在中间层二氧化硅薄膜(3)上的折射率为1.9-2的稀疏层二氧化硅薄膜(4)。
3.根据权利要求2所述的晶体硅太阳能电池多层二氧化硅减反射膜,其特征是,所述的三层二氧化硅薄膜的厚度之和为70-80nm。
4.根据权利要求2所述的晶体硅太阳能电池多层二氧化硅减反射膜,其特征是,所述的致密层二氧化硅薄膜(2)、中间层二氧化硅薄膜(3)、稀疏层二氧化硅薄膜(4)的厚度比为1:2:4。
5.根据权利要求1所述的晶体硅太阳能电池多层二氧化硅减反射膜,其特征是,所述硅基衬底(1)选自准单晶衬底、多晶衬底中的一种。
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H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L31-00 对红外辐射、光、较短波长的电磁辐射,或微粒辐射敏感的,并且专门适用于把这样的辐射能转换为电能的,或者专门适用于通过这样的辐射进行电能控制的半导体器件;专门适用于制造或处理这些半导体器件或其部件的方法或
H01L31-02 .零部件
H01L31-0248 .以其半导体本体为特征的
H01L31-04 .用作转换器件的
H01L31-08 .其中的辐射控制通过该器件的电流的,例如光敏电阻器
H01L31-12 .与如在一个共用衬底内或其上形成的,一个或多个电光源,如场致发光光源在结构上相连的,并与其电光源在电气上或光学上相耦合的