[发明专利]发光二极管及发光二极管制造方法有效

专利信息
申请号: 201210453099.1 申请日: 2012-11-13
公开(公告)号: CN103811606A 公开(公告)日: 2014-05-21
发明(设计)人: 林雅雯;邱镜学;凃博闵;黄世晟 申请(专利权)人: 展晶科技(深圳)有限公司;荣创能源科技股份有限公司
主分类号: H01L33/04 分类号: H01L33/04;H01L33/00
代理公司: 暂无信息 代理人: 暂无信息
地址: 518109 广东省深圳市宝*** 国省代码: 广东;44
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摘要:
搜索关键词: 发光二极管 制造 方法
【权利要求书】:

1.一种发光二极管,包括:

蓝宝石基板;

覆盖在蓝宝石基板表面的碳纳米管,碳纳米管之间形成有间隙以暴露出蓝宝石基板的部分表面;

未掺杂的GaN层,形成在暴露的蓝宝石基板的表面且覆盖所述碳纳米管;

N型GaN层,形成在未掺杂的GaN层表面;

活性层,形成在N型GaN层表面;以及

P型GaN层,形成在活性层表面。

2.如权利要求1所述的发光二极管,其特征在于,所述碳纳米管的管径为15~30nm。

3.如权利要求1所述的发光二极管,其特征在于,所述碳纳米管相互间隔且平行于蓝宝石基板的表面。

4.如权利要求1所述的发光二极管,其特征在于,所述活性层为多量子阱层。

5.一种发光二极管的制造方法,包括以下步骤:

提供一个蓝宝石基板;

在蓝宝石基板的表面覆盖多个碳纳米管,碳纳米管之间形成有间隙以暴露出蓝宝石基板的部分表面;

在蓝宝石基板的未被碳纳米管覆盖的区域生长未掺杂的GaN层,且所述GaN层覆盖所述碳纳米管;

在未掺杂的GaN层表面生长N型GaN层;

在N型GaN层表面生长活性层;以及

在活性层表面生长P型GaN层。

6.如权利要求5所述的发光二极管的制造方法,其特征在于,所述碳纳米管的管径为15~30nm。

7.如权利要求5所述的发光二极管的制造方法,其特征在于,所述碳纳米管相互间隔且平行于蓝宝石基板的表面。

8.如权利要求5所述的发光二极管的制造方法,其特征在于,所述活性层为多量子阱层。

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