[发明专利]发光二极管及发光二极管制造方法有效
申请号: | 201210453099.1 | 申请日: | 2012-11-13 |
公开(公告)号: | CN103811606A | 公开(公告)日: | 2014-05-21 |
发明(设计)人: | 林雅雯;邱镜学;凃博闵;黄世晟 | 申请(专利权)人: | 展晶科技(深圳)有限公司;荣创能源科技股份有限公司 |
主分类号: | H01L33/04 | 分类号: | H01L33/04;H01L33/00 |
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地址: | 518109 广东省深圳市宝*** | 国省代码: | 广东;44 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 发光二极管 制造 方法 | ||
1.一种发光二极管,包括:
蓝宝石基板;
覆盖在蓝宝石基板表面的碳纳米管,碳纳米管之间形成有间隙以暴露出蓝宝石基板的部分表面;
未掺杂的GaN层,形成在暴露的蓝宝石基板的表面且覆盖所述碳纳米管;
N型GaN层,形成在未掺杂的GaN层表面;
活性层,形成在N型GaN层表面;以及
P型GaN层,形成在活性层表面。
2.如权利要求1所述的发光二极管,其特征在于,所述碳纳米管的管径为15~30nm。
3.如权利要求1所述的发光二极管,其特征在于,所述碳纳米管相互间隔且平行于蓝宝石基板的表面。
4.如权利要求1所述的发光二极管,其特征在于,所述活性层为多量子阱层。
5.一种发光二极管的制造方法,包括以下步骤:
提供一个蓝宝石基板;
在蓝宝石基板的表面覆盖多个碳纳米管,碳纳米管之间形成有间隙以暴露出蓝宝石基板的部分表面;
在蓝宝石基板的未被碳纳米管覆盖的区域生长未掺杂的GaN层,且所述GaN层覆盖所述碳纳米管;
在未掺杂的GaN层表面生长N型GaN层;
在N型GaN层表面生长活性层;以及
在活性层表面生长P型GaN层。
6.如权利要求5所述的发光二极管的制造方法,其特征在于,所述碳纳米管的管径为15~30nm。
7.如权利要求5所述的发光二极管的制造方法,其特征在于,所述碳纳米管相互间隔且平行于蓝宝石基板的表面。
8.如权利要求5所述的发光二极管的制造方法,其特征在于,所述活性层为多量子阱层。
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