[发明专利]一种上颌窦底提升装置和方法有效

专利信息
申请号: 201210415771.8 申请日: 2012-10-26
公开(公告)号: CN102908201A 公开(公告)日: 2013-02-06
发明(设计)人: 戴烨扬 申请(专利权)人: 凌晴
主分类号: A61C8/00 分类号: A61C8/00
代理公司: 上海汉声知识产权代理有限公司 31236 代理人: 胡晶
地址: 201108 上海市闵*** 国省代码: 上海;31
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: 一种 上颌 提升 装置 方法
【说明书】:

技术领域

发明涉及到牙科种植领域,尤其是一种上颌窦底的提升装置和方法。

 

背景技术

目前治疗缺牙最先进的方法是种植牙修复,但在上颌窦区常因牙槽嵴的吸收,上颌窦气腔化造成可用骨高度不足,上颌窦提升术可以解决骨高度不足的问题。即在上颌窦底和上颌粘膜之间制造空间,放置骨或者骨代替品,以增加牙槽嵴顶到上颌窦底的距离,使安放种植体成为可能。上颌窦提升术分为闭合式上颌窦底提升术和开窗式上颌窦底提升术。上颌窦内提升术是指在牙槽嵴顶制备种植窝,当制备至上颌窦底1-2mm时,使用专门的上颌窦内提升工具锤击造成上颌窦底骨质断裂,提升窦底粘膜,可植骨或不植骨。该术式能少量提升上颌窦底,手术反应较上颌窦外提升术轻。

但该手术是在盲视下进行的,该术式虽方法简单但操作难度高,仅凭手感和听觉判断,敲击力度难以精确控制,容易造成粘膜穿破,而且粘膜穿孔很难补救。由于张口度的限制,在上颌第二磨牙区应用有一定的困难,而且该方法需要锤击使上颌窦底骨板折裂,患者常感到恐惧,尤其当骨质较硬时,往往需要大力敲击,患者常诉精神高度紧张,头部有剧烈震动感或头痛。

现有技术也有取代敲击上颌窦底骨板的技术,但操作起来大多都比较繁琐,实地操作难度较大。现急需一种操作简单、效果好并且能大幅度减轻患者手术中生理和心理痛苦的上颌窦底提升技术。

 

发明内容

为了克服现有技术的缺陷,本发明提供一种上颌窦底提升装置,包括一螺杆和一底座,

所述底座为一中空柱状结构,其外表面设有一用于将所述底座旋进并固定在种植窝中的自攻螺纹和一用于为旋动机构实施旋力提供支点的第一受力机构,所述自攻螺纹和第一受力机构由一挡圈隔开,所述底座内表面设有与所述自攻螺纹方向一致的一内表面螺纹;

所述螺杆为一柱状结构,其表面设有与所述内表面螺纹相匹配的螺杆螺纹和一为另一旋动机构提供实施旋力支点的第二受力机构,其底部设有一用于推挤上颌窦底的加力盘,所述螺杆通过螺纹结构旋进所述底座。

较佳地,所述自攻螺纹向所述挡圈方向的螺纹结构逐渐加深设置。

较佳地,所述加力盘的直径大于螺杆直径小于底座外径,其边缘设有突起,所述突起高度为0.5-1.5mm。

本发明同时也提供了一种上颌窦底提升方法,包括以下步骤:

提供一上颌窦底提升装置,所述上颌窦底提升装置包括一底座和一螺杆,所述底座为中空结构;

在距上颌窦底0.5-2mm处制备一种植窝,将所述种植窝直径设置为小于所述底座外径;

将所述底座与螺杆组合后旋进并固定在所述种植窝中,旋转所述螺杆向上颌窦底施加提升力,提升所述上颌窦底至预定高度;

卸下所述底座和螺杆。

较佳地,所述底座外表面设有一用于将底座旋进并固定在种植窝中的自攻螺纹和一用于为旋动机构实施旋力提供支点的第一受力机构以及一挡圈,所述挡圈将所述自攻螺纹和第一受力机构隔开。

较佳地,所述底座内表面设有与所述自攻螺纹方向一致的一内表面螺纹。

较佳地,所述自攻螺纹向所述挡圈方向的螺纹结构逐渐加深设置。

较佳地,所述螺杆设置为一柱状结构,其表面设有与所述内表面螺纹相匹配的螺杆螺纹和一为旋动机构提供实施旋力的支点的第二受力机构。

较佳地,所述螺杆底部设有一用于推挤上颌窦底的加力盘,所述加力盘的直径设为大于螺杆直径小于底座外径,其底部边缘设有突起结构,所述突起高度设置为0.5-1.5mm。

 

与现有技术相比,本发明的有益效果如下:

本发明可以缓慢并可精确控制的提升上颌窦底,防止上颌窦底的穿孔;同时本发明避免了锤击造成的不适;更优的,本发明采用嵌入式的底座,不仅不需要采用辅助工具或手段固定底座,而且底座本身就对上颌窦区骨高度就有少许的提升作用。

当然,实施本发明的任一产品并不一定需要同时达到以上所述的所有优点。

附图说明

图1为本发明上颌窦底提升装置的结构示意图;

图2为本发明上颌窦底提升装置底座的结构示意图;

图3为本发明上颌窦底提升装置螺杆的结构示意图。

 

具体实施方式

如图1所示,本发明提供了一种上颌窦底提升装置,该装置包括螺杆2和底座1。

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于凌晴,未经凌晴许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201210415771.8/2.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top