[发明专利]一种上颌窦底提升装置和方法

权利要求书

1.一种上颌窦底提升装置，其特征在于，包括一螺杆和一底座，

所述底座为一中空柱状结构，其外表面设有一用于将所述底座旋进并固定在种植窝中的自攻螺纹和一用于为旋动机构实施旋力提供支点的第一受力机构，所述自攻螺纹和第一受力机构由一挡圈隔开，所述底座内表面设有与所述自攻螺纹方向一致的一内表面螺纹；

所述螺杆为一柱状结构，其表面设有与所述内表面螺纹相匹配的螺杆螺纹和一为另一旋动机构提供实施旋力支点的第二受力机构，其底部设有一用于推挤上颌窦底的加力盘，所述螺杆通过螺纹结构旋进所述底座。

2.如权利要求1所述的上颌窦底提升装置，其特征在于，所述自攻螺纹向所述挡圈方向的螺纹结构逐渐加深设置。

3.如权利要求1所述的上颌窦底提升装置，其特征在于，所述加力盘的直径大于螺杆直径小于底座外径，其边缘设有突起，所述突起高度为0.5-1.5mm。

4.一种上颌窦底提升方法，其特征在于，包括以下步骤：

提供一上颌窦底提升装置，所述上颌窦底提升装置包括一底座和一螺杆，所述底座为中空结构；

在距上颌窦底0.5-2mm处制备一种植窝，将所述种植窝直径设置为小于所述底座外径；

将所述底座与螺杆组合后旋进并固定在所述种植窝中，旋转所述螺杆向上颌窦底施加提升力，提升所述上颌窦底至预定高度；

卸下所述底座和螺杆。

5.如权利要求4所述的方法，其特征在于，所述底座外表面设有一用于将底座旋进并固定在种植窝中的自攻螺纹和一用于为旋动机构实施旋力提供支点的第一受力机构以及一挡圈，所述挡圈将所述自攻螺纹和第一受力机构隔开。

6.如权利要求4所述的方法，其特征在于，所述底座内表面设有与所述自攻螺纹方向一致的一内表面螺纹。

7.如权利要求4所述的方法，其特征在于，所述自攻螺纹向所述挡圈方向的螺纹结构逐渐加深设置。

8.如权利要求4所述的方法，其特征在于，所述螺杆设置为一柱状结构，其表面设有与所述内表面螺纹相匹配的螺杆螺纹和一为旋动机构提供实施旋力的支点的第二受力机构。

9.如权利要求4所述的方法，其特征在于，所述螺杆底部设有一用于推挤上颌窦底的加力盘，所述加力盘的直径设为大于螺杆直径小于底座外径，其底部边缘设有突起结构，所述突起高度设置为0.5-1.5mm。