[发明专利]高灵敏温控厚膜混合集成电路的集成方法有效
申请号: | 201210396194.2 | 申请日: | 2012-10-18 |
公开(公告)号: | CN102891113A | 公开(公告)日: | 2013-01-23 |
发明(设计)人: | 杨成刚;苏贵东;杨萍 | 申请(专利权)人: | 贵州振华风光半导体有限公司 |
主分类号: | H01L21/98 | 分类号: | H01L21/98 |
代理公司: | 贵阳中工知识产权代理事务所 52106 | 代理人: | 刘安宁 |
地址: | 550018 贵*** | 国省代码: | 贵州;52 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 灵敏 温控 混合 集成电路 集成 方法 | ||
技术领域
本发明涉及集成电路,具体来说,涉及高灵敏温控厚膜混合集成电路。
背景技术
原有的工作温度可控混合电路集成技术中,在工作温度可控集成电路的混合集成面采用二维平面集成技术,将分离的热敏片式电阻、热敏传感信号处理芯片、温控器件主芯片、其他有源或无源元器件等直接装贴在厚膜基片上,再采用键合丝(金丝或硅铝丝)进行键合,完成整个电器连接,最后在特定的气氛中将管基和管帽进行密封而成。原有技术由于采用二维平面集成技术,热敏电阻等温度传感器件与需保护的温控器件主芯片之间不可避免会有间隙,温度传感只能经过面积较小的侧面热辐射、衬底基片迂回传导的方式感应热量,因而,热量传导时间相应过长,造成热信号反馈速度的大大延长,从而影响温度控制的精度范围,进一步加大温控器件相关性能参数指标的温度漂移范围,限制温控器件在高精度、高稳定性使用的场合,或者增大应用系统的设计难度、复杂程度和使用成本。
经检索,涉及温控混合集成电路的中国专利申请件仅有CN101295184号《具有温控功能的集成电路、温控加热电路及恒温保持装置》,该集成电路包含一温度调控模组及一加热器,温度调控模组能根据使用者设定一控制讯号,加热器受温度调控模组的控制讯号控制以产生一预定温度的热能。但该集成电路不属于高灵敏温控混合集成电路。
发明内容
本发明的目的是提供一种高灵敏温控厚膜混合集成电路的集成方法,以解决以下问题:①热敏电阻等温度传感器件与需保护的温控器件主芯片之间在大面积方向上实现无间隙紧密接触;②当温控器件外界工作环境温度发生变化时,其内部芯片工作环境温度的变化范围可控制在设定温度的±5℃以内,从而降低温控器件相关性能参数指标的温度漂移范围;③节省外贴热电阻等温度传感器件的集成空间,进一步提高温控制集成电路的集成度;④热敏电阻等温度传感器件的形状及大小可随温控器件主芯片的形状及大小自行设定,免去受外贴热电阻等温度传感器件形状及大小的影响。
发明人提供的高灵敏温控厚膜混合集成电路的集成,是采用厚膜热敏电阻与温控器件主芯片一体化三维混合集成的方式来实现的,具体的集成方法包括以下步骤:
第一步,先采用丝网印刷的方法,将选定的电阻厚膜浆料和金属厚膜浆料按设计的掩模图形,印刷到氮化铝陶瓷基片(Al3N4)上,分别经高温烧结和电阻修调,形成所需的厚膜电阻、金属导带、金属键合区;
第二步,再采用丝网印刷的方法,将选定的热敏电阻厚膜浆料按设计的掩模图形,印刷到氮化铝陶瓷基片(Al3N4)上,经高温烧结和电阻修调,形成所需形状和大小的厚膜热敏电阻;
第三步,再用同样的方法在热敏电阻厚膜上形成厚膜绝缘介质层及芯片粘贴所需的厚膜金属化层;
第四步,采用常规混合集成电路组装工艺,将热敏传感信号处理芯片、温控器件主芯片、有源或无源元器件等直接装贴在厚膜基片上;
第五步,采用键合丝进行键合,完成整个电器连接;
第六步,在特定的气氛中将管基和管帽进行密封,即得到所需高灵敏温控厚膜混合集成电路器件。
上述方法的第一步中,所述电阻厚膜浆料是由电阻功能材料、玻璃粘结剂、有机溶剂、改性剂调配而成的,其中电阻功能材料是钌系氧化物;所述金属厚膜浆料是由导体功能材料、玻璃粘结剂、有机溶剂、改性剂等调配而成的,导体功能材料是钯-金; 所述高温烧结控制的温度为 600℃~1050℃;所述电阻修调是激光调阻。
上述方法的第二步中,所述热敏电阻厚膜浆料是由热阻敏感功能材料、玻璃粘结剂、有机溶剂、改性剂调配而成的,其中热阻敏感功能材料是线性缓变型(LNTC、LPTC)、负温度系数(NTC)温度敏感的半导体陶瓷材料; 所述高温烧结控制的温度为600℃~1050℃;所述电阻修调是激光调阻。
上述方法的第三步中,所述厚膜绝缘介质层是用陶瓷介质浆料印刷的,所述芯片粘贴所需的厚膜金属化层是用钯-金厚膜浆料印刷的。
上述方法的第四步中,所述有源或无源元器件是半导体裸芯片、经封装后的表贴式元器件。
上述方法的第五步中,所述键合丝是金丝或硅铝丝。
上述方法的第六步中,所述特定的气氛是高真空或高纯氮气或氩气。
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H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L21-00 专门适用于制造或处理半导体或固体器件或其部件的方法或设备
H01L21-02 .半导体器件或其部件的制造或处理
H01L21-64 .非专门适用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各组的单个器件所使用的除半导体器件之外的固体器件或其部件的制造或处理
H01L21-66 .在制造或处理过程中的测试或测量
H01L21-67 .专门适用于在制造或处理过程中处理半导体或电固体器件的装置;专门适合于在半导体或电固体器件或部件的制造或处理过程中处理晶片的装置
H01L21-70 .由在一共用基片内或其上形成的多个固态组件或集成电路组成的器件或其部件的制造或处理;集成电路器件或其特殊部件的制造