[发明专利]等离子显示屏剥离液及其制备方法与应用

说明书

技术领域

本发明涉及一种等离子显示屏剥离液及其制备方法与应用。

背景技术

在等离子基板的生产的光刻技术中通常包括在玻璃基片上依次进行：设置金属或金属氧化物层的金属配线形成工序；设置光致抗蚀剂层的工序；在光致抗蚀剂上转写掩模图形的曝光工序；按照图形对模进行蚀刻的蚀刻工序；以及除去光致抗蚀剂的剥离工序。在通常的制造工艺中光刻工序会多达十多次。

一般的剥离液可以列举出无机酸、有机酸、无机碱或者有机溶剂，可是，作为剥离剂的有效成分，当使用无机酸或者无机碱时，或使下部金属膜腐蚀，或伴随有害于人体的缺点等操作上的困难性。因此通常使用有机溶剂。目前PDP面板制造中使用的光致抗蚀剂用剥离液主要是含有有机极性溶剂、胺类及水的体系的剥离液。然而这些现有的剥离液存在以下问题：1、生产工艺复杂。在进行剥离处理过程中，在剥离掉光致抗蚀剂后需要用有机溶剂和水分别漂洗，增加清洗工序时间，产生大量废液废水；2、剥离性能弱，对布线腐蚀影响大；3、清洗后残留金属离子的数量超出标准要求，容易引起表面金属离子污染。

发明内容

本发明的目的是提供一种等离子显示屏剥离液及其制备方法与应用。

本发明提供的剥离液，包括式I所示季铵氢氧化物、式II所示酰胺化合物、有机溶剂、防腐剂和水，

式I

式II

所述式I中，R₁、R₂和R₃均选自C1-C5的烷基和C1-C5的羟烷基中的任意一种；

所述式II中，R₁和R₂均选自H、CH₃和C₂H₅中的任意一种。

所述剥离液也可只由上述组分组成。

所述式I所示季铵氢氧化物选自氢氧化三甲基烯丙基铵、氢氧化（1-羟基乙基）二甲基烯丙基铵、氢氧化（1，2-二羟基乙基）一甲基烯丙基铵、氢氧化三乙基烯丙基铵、氢氧化一甲基二乙基烯丙基铵、氢氧化二甲基一乙基烯丙基铵、氢氧化（1-羟基乙基）二乙基烯丙基铵、氢氧化（1，2-二羟基乙基）一乙基烯丙基铵、氢氧化（1-羟基丙基）二乙基烯丙基铵、氢氧化三丙基烯丙基铵、氢氧化一甲基二丙基烯丙基铵、氢氧化二甲基一丙基烯丙基铵、氢氧化（1-羟基乙基）二丙基烯丙基铵、氢氧化（1，2-二羟基乙基）一丙基烯丙基铵、氢氧化一甲基一乙基一丙基烯丙基铵、氢氧化（1-羟基丙基）二丙基烯丙基铵、氢氧化（1，2-二羟基丙基）一丙基烯丙基铵和氢氧化三丁基烯丙基铵中的至少一种；

所述式II所示酰胺化合物选自6-氟-3-氧代-3,4-二氢吡嗪-2-甲酰胺、6-氟-N-甲基-3-氧代-3,4-二氢吡嗪-2-甲酰胺、6-氟-N-乙基-3-氧代-3,4-二氢吡嗪-2-甲酰胺、6-氟-N，N-甲基-3-氧代-3,4-二氢吡嗪-2-甲酰胺和6-氟-N，N-乙甲基-3-氧代-3,4-二氢吡嗪-2-甲酰胺中的至少一种；

所述有机溶剂为二元醇类水溶性有机溶剂，具体选自乙二醇、一缩二乙二醇和丙二醇中的至少一种；

所述防腐剂选自果糖、葡萄糖、木糖醇、山梨糖醇、1-硫甘油、2-巯基乙醇、邻苯二酚、没食子酸、苹果酸和苯并三唑中的至少一种；

所述水为去离子水，具体为电子级去离子水，在25℃的电阻率至少为18兆欧，总金属离子浓度不大于5000ug/L，具体为500ug/L，更具体为50ug/L。

所述剥离液中，各组分所占质量百分比分别为：

所述式I所示季铵氢氧化物：1-15%，具体为2-10%，更具体为3%、5%或8%；该组分占剥离液总重的百分比若低于前述范围，则剥离液的剥离效果不好，光刻胶还会出现不溶解的现象，带来大量残留，若高于前述范围，会是剥离液pH偏高，对金属布线有侵蚀的副作用；

所述式II所示酰胺化合物：1-10%，具体为2-5%，具体为3%；本发明所选择的酰胺类化合物较为特殊，其能够有效的调节pH于合适范围，在剥离光刻胶的同时，能避免剥离液对金属布线的侵蚀，提高产品的精细度。该组分占剥离液总重的百分比若不在上述范围，会降低剥离的良率；

所述有机溶剂：5-25%，具体为5-10%，更具体为8%或15%；该组分占剥离液总重的百分比若低于前述范围，则剥离后的溶剂效果不好，带来大量残留，若高于前述范围，会提高剥离液的成本，而且不利于环保；