[发明专利]稳定共表达hST3GalIV和β1-4GalT1的MDCK细胞系及构建方法和应用无效

专利信息
申请号: 201210374492.1 申请日: 2012-09-27
公开(公告)号: CN102839157A 公开(公告)日: 2012-12-26
发明(设计)人: 刘秀梵;孙庆;张文俊;王晓泉;胡顺林 申请(专利权)人: 扬州大学
主分类号: C12N5/10 分类号: C12N5/10;C12N15/85;C12N7/00;A61K39/145;A61P31/16;C12R1/93
代理公司: 南京知识律师事务所 32207 代理人: 卢亚丽
地址: 225009 *** 国省代码: 江苏;32
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: 稳定 表达 hst3galiv galt1 mdck 细胞系 构建 方法 应用
【权利要求书】:

1.一种稳定表达hST3GalIV和β1-4GalT1的MDCK细胞系,是MDCK-hST3GalIV-β4GalT1,其含有hST3GalIV和β1-4GalT1基因序列;所述hST3GalIV的基因序列如SEQ ID No: 1所示,所述β1-4GalT1的基因序列如SEQ ID No: 3所示;所述细胞系的保藏号是CGMCC No. 5967。

2.权利要求1所述的稳定表达hST3GalIV和β1-4GalT1的MDCK细胞系的构建方法,其特征在于,是将带有编码hST3GalIV基因序列的真核表达质粒和带有编码β1-4GalT1基因序列的真核表达质粒转染至MDCK细胞,最终获得能稳定表达hST3GalIV和β1-4GalT1基因的细胞系MDCK-hST3GalIV-β4GalT1。

3.根据权利要求2所述MDCK-hST3GalIV-β4GalT1细胞系的构建方法,其特征在于包括以下具体步骤:

1)MDCK细胞的转染及抗性细胞克隆的筛选

转染: MDCK细胞密度在6孔板至80%~90%密度时用于转染;将编码hST3GalIV基因序列的真核表达质粒和编码β1-4GalT1基因序列的真核表达质粒各1μg质粒于100 μL无血清Opti-MEM培养基中,混匀后添加5 μL FuGENE?HD转染试剂,充分混匀之后室温孵育15分;将上述复合物覆盖于细胞表面,补加无血清Opti-MEM培养基至总体积为2 mL,置于37℃、5% CO2培养箱中培养24小时后移除培养物,更换为新鲜的含10%胎牛血清的DMEM培养基继续培养;

抗性细胞克隆的筛选: 转染后36小时后用胰酶消化细胞,按1:10 的比例传代至48孔细胞板中,继续用含0.8 mg/mL G418的10%胎牛血清DMEM培养基为筛选培养基培养,每孔200 μL,每3天换一次筛选培养基,G418持续筛选10-14天后,可见有抗性细胞生长;选择生长状态良好的抗性细胞集落,继续用于单克隆细胞筛选:用含0.8 mg/mL G418的筛选培养基将细胞密度稀释至1个/100 μL,铺于96孔细胞板中50 μL,每孔补加50 μL筛选培养基;持续筛选10天后选择表达水平最高的克隆再次按有限稀释法进行单克隆筛选,以确保筛选出单克隆抗性细胞;选出的细胞依次于96孔、24孔和 6孔细胞培养板中扩大培养并冻存于液氮中;

2)MDCK-hST3GalIV-β4GalT1细胞系的鉴定

提取上述所获具有抗性细胞的RNA,并反转录形成cDNA,以反转录成的cDNA为模板,用PCR方法分别通过PCR反应扩增人源β-半乳糖苷α2,3-唾液酸转移酶IV基因和β1-4半乳糖转移酶1基因;扩增结果表明MDCK-hST3GalIV-β4GalT1细胞系已成功构建,

用于扩增人源β-半乳糖苷α2,3-唾液酸转移酶IV(hST3GalIV)的引物:

3G4F:5’- ATGGTCAGCAAGTCCCGCTGGAAG-3’

3G4R:5’-TCAGAAGGACGTGAGGTTCTTG-3’

用于扩增人源β1-4半乳糖转移酶1(β1-4GalT1)的引物:

B4G1F:5’- ATGAGGCTTCGGGAGCCGCTCCTGAG-3’

B4G1R:5’- CTAGCTCGGTGTCCCGATGTCCAC-3’。

4.权利要求1所述MDCK-hST3GalIV-β1-4GalT1细胞系用于提高禽流感病毒分离株的生长滴度以及噬斑形成能力。

5.权利要求1所述MDCK-hST3GalIV-β1-4GalT1细胞系在生产疫苗中的应用。

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于扬州大学,未经扬州大学许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201210374492.1/1.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top