[发明专利]混合式绕射光栅、模具及绕射光栅及其模具的制造方法

权利要求书

1.一种具有多个绕射结构的绕射光栅的制造方法，其特征是，所述制造方法包括：

依据一轮廓图从一本体的一俯视方向对所述本体进行一翻印成型程序以形成一第一成型层，其中所述轮廓图包括所述多个绕射结构的一俯视图案，所述俯视图案定义所述多个绕射结构的多种闪耀角；以及

通过所述第一成型层执行一反射层形成程序，用于形成一反射层于所述本体，其中从所述俯视方向来看，所述反射层定义有所述俯视图案。

2.如权利要求1所述的制造方法，其特征是，从所述本体的一侧视方向来看，所述反射层呈现所述多个绕射结构的有效面。

3.如权利要求1所述的制造方法，其特征是，所述第一成型层为光阻层，所述轮廓图为光罩、遮罩或一移动路径图，所述翻印成型程序为曝光显影程序或粒子刻蚀程序。

4.如权利要求1所述的制造方法，其特征是，所述多个绕射结构的其中之二具有不同的单一闪耀角。

5.如权利要求1所述的制造方法，其特征是，所述多个绕射结构的其中之一具有多种闪耀角。

6.如权利要求1所述的制造方法，其特征是，所述反射层形成程序包括：

通过所述第一成型层形成一第二成型层于所述第一成型层之下；

移除所述第一成型层；以及

形成所述反射层于所述第二成型层上。

7.如权利要求1所述的制造方法，其特征是，所述反射层形成程序包括：

通过所述第一成型层形成一第二成型层于所述第一成型层之下；以及

形成所述反射层于所述第一成型层与所述第二成型层上。

8.如权利要求1所述的制造方法，其特征是，所述多个绕射结构沿一曲线排列，且所述曲线不是圆弧曲线，所述曲线被所述俯视图案所定义。

9.如权利要求1所述的制造方法，其特征是，所述俯视图案更定义所述多个绕射结构的多种间距值。

10.如权利要求1所述的制造方法，其特征是，所述多个绕射结构是一次性地产出。

11.一种绕射光栅，其特征是，所述绕射光栅包括：

一本体，包括多个绕射结构，其中从所述本体的一俯视方向来看，所述多个绕射结构排列为一图案，所述图案由相对应的一轮廓图所定义，所述轮廓图定义所述多个绕射结构的多种闪耀角；以及

一反射层，配置于所述多个绕射结构上，并具有对应于所述多个绕射结构的特征。

12.如权利要求11所述的绕射光栅，其特征是，所述本体为一种半导体刻蚀制造工艺的产物。

13.如权利要求12所述的绕射光栅，其特征是，所述多个绕射结构的有效面与所述半导体刻蚀制造工艺的一刻蚀方向平行。

14.如权利要求13所述的绕射光栅，其特征是，所述多个绕射结构的所述多个有效面的长度不完全相等。

15.如权利要求11所述的绕射光栅，其特征是，所述轮廓图为光罩、遮罩或一移动路径图。

16.如权利要求11所述的绕射光栅，其特征是，所述多个绕射结构的其中之二具有不同的单一闪耀角。

17.如权利要求11所述的绕射光栅，其特征是，所述多个绕射结构的其中之一具有多种闪耀角。

18.如权利要求11所述的绕射光栅，其特征是，从所述本体的一侧视方向来看，所述反射层呈现所述多个绕射结构的有效面。

19.如权利要求18所述的绕射光栅，其特征是，所述多个绕射结构的有效面与所述俯视方向平行。

20.如权利要求11所述的绕射光栅，其特征是，所述多个绕射结构包括：

一第一成型层，与所述反射层相接触，且能被所述轮廓图直接或间接地定义而产生特征；以及

一第二成型层，位于所述第一成型层之下，具有与所述第一成型层相对应的特征，且与所述反射层相接触。

21.如权利要求11所述的绕射光栅，其特征是，所述多个绕射结构包括：

一第二成型层，与所述反射层相接触，且能被所述轮廓图直接或间接地定义而产生特征。