[发明专利]一种提高化学溶液法制备CeO2薄膜临界厚度的方法

权利要求书

1.一种提高化学溶液法制备CeO₂薄膜临界厚度的方法，其特征依次由以下步骤构成：

a、硝酸盐的制备：按稀土与铈离子比x：1－x，0.01≤x≤0.5配制稀土硝酸盐与硝酸亚铈混合物；

b、胶体制备：将配制的稀土硝酸盐与硝酸亚铈溶解在高分子有机溶剂中； 

c、胶体涂敷与干燥：将b步中胶体均匀涂覆于织构基底上，后干燥；

d、 分解成相：将干燥样品放入通H₂/Ar还原气氛的烧结炉中,经过350 ^oC－550 ^oC分解，后升温至1000^oC－1200^oC成相，随炉冷却。

2.根据权利要求1所述的一种提高化学溶液法制备CeO₂薄膜临界厚度的方法，其特征在于：所述a步中，稀土为钇 (Y)、镧(La)、镨(Pr)、钕(Nd)、钐(Sm)、铕 (Eu)、钆(Gd)、铽(Tb)、镝 (Dy)、钬(Ho)、铒(Er)、铥(Tm)、镱(Yb)、镥(Lu)中的一种。

3.根据权利要求1所述的一种提高化学溶液法制备CeO₂薄膜临界厚度的方法，其特征在于：所述b步中，高分子有机溶剂为聚甲基丙烯酸或聚丙烯酸与N-N二甲基甲酰胺的聚合物，此溶解过程中引入超声仪器辅助，使得胶体获得离子水平上的均匀分布。

4.根据权利要求1所述的一种提高化学溶液法制备CeO₂薄膜临界厚度的方法，其特征在于：所述c步中，织构基带可为：NiW合金基带、NiCr合金基带、NiAg合金基带以及其他织构基带中的一种。

5.根据权利要求1所述的一种提高化学溶液法制备CeO₂薄膜临界厚度的方法，其特征在于：所述c步中，涂覆方法是：旋涂法、提拉法、狭缝喷涂法等中一种，涂覆时须保证薄膜厚度大于最小湿厚度，薄膜能够连续、完全覆盖基底。

6.根据权利要求1所述的一种提高化学溶液法制备CeO₂薄膜临界厚度的方法，其特征在于：所述d步中， 以1℃/min -5℃/min速率升至350 ^oC－550 ^oC ，保证高分子有机物和硝酸盐充分分解，后升温至1000^oC－1200^oC成相温度，保温1－2小时，随炉冷却。